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à propos de cible argentée qui broute
  • Innovation technologique
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cible argentée qui broute60+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en argent pour revêtement par magnétron

Cible de pulvérisation en argent pour revêtement par magnétron

99,00-6 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en argent pour dépôt de vapeur de plasma pour revêtement en film mince

Cible de pulvérisation en argent pour dépôt de vapeur de plasma pour revêtement en film mince

60,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Nicr 80/20wt% Cible de pulvérisation en nickel-chrome

Nicr 80/20wt% Cible de pulvérisation en nickel-chrome

50,00-800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.9% Cible de pulvérisation en aluminium titane Tial pour revêtement

99.9% Cible de pulvérisation en aluminium titane Tial pour revêtement

50,00-900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation en métal argent pur, 99.99 Cibles en métaux précieux argent AG Personnalisation

Cible de pulvérisation en métal argent pur, 99.99 Cibles en métaux précieux argent AG Personnalisation

630,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de ruthénium de prix d'usine

Cible de pulvérisation de ruthénium de prix d'usine

1 000,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Usine 99.95% pur ruthénium pulvérisation cible avec meilleur prix, métaux précieux Ru IR RH PT matériau cible Fabricant

Usine 99.95% pur ruthénium pulvérisation cible avec meilleur prix, métaux précieux Ru IR RH PT matériau cible Fabricant

1 000,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3mm Cible épaisse en ruthénium, cible de pulvérisation de Ru

3mm Cible épaisse en ruthénium, cible de pulvérisation de Ru

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Cible de pulvérisation de la marque TMAXCN en argent (AG)

Cible de pulvérisation de la marque TMAXCN en argent (AG)

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

8 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron de banc pour le dépôt de films minces conducteurs

Coateur de pulvérisation par magnétron de banc pour le dépôt de films minces conducteurs

5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Envoyer demande
Cible en alliage d'aluminium argenté pour le dépôt par pulvérisation pour revêtements réfléchissants

Cible en alliage d'aluminium argenté pour le dépôt par pulvérisation pour revêtements réfléchissants

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pellets de titane de haute pureté 99.99% Granules de titane pour revêtement par évaporation

Pellets de titane de haute pureté 99.99% Granules de titane pour revêtement par évaporation

50,00-200,00 $US
1 Kg(MOQ)
Aluminium pur premium 99.99% pour usage industriel

Aluminium pur premium 99.99% pour usage industriel

30,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Fabrication d'un alliage de titane et de molybdène, gris argenté, alliage métallique de titane et de molybdène, adapté aux applications à haute température

Fabrication d'un alliage de titane et de molybdène, gris argenté, alliage métallique de titane et de molybdène, adapté aux applications à haute température

25,00-80,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Envoyer demande
Cible en alliage AlSc, cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de scandium pour semi-conducteur

Cible en alliage AlSc, cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de scandium pour semi-conducteur

9 400,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en alliage AlTi, cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de titane pour circuits intégrés et revêtement sous vide

Cible en alliage AlTi, cible de pulvérisation en alliage d'aluminium et de titane pour circuits intégrés et revêtement sous vide

50,00-80,00 $US
1 Kg(MOQ)
W Target cible de pulvérisation de tungstène pour semi-conducteurs/puces de mémoire

W Target cible de pulvérisation de tungstène pour semi-conducteurs/puces de mémoire

45,00-350,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible d'alliage AuSn Alliage Or-Étain (70: 30wt%) Cible de pulvérisation pour composants électroniques puces

Cible d'alliage AuSn Alliage Or-Étain (70: 30wt%) Cible de pulvérisation pour composants électroniques puces

45 200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation de revêtement PVD plan rond en titane tungstène Ti/W usine

Cible de pulvérisation de revêtement PVD plan rond en titane tungstène Ti/W usine

300,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage multi-PCS en nickel et chrome 99.99% revêtement PVD pur Chine

Cible de pulvérisation en alliage multi-PCS en nickel et chrome 99.99% revêtement PVD pur Chine

80,00-800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.999% Pur Sio2 Dioxyde Sio2 Cible de pulvérisation en disque

99.999% Pur Sio2 Dioxyde Sio2 Cible de pulvérisation en disque

80,00-800,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en chrome de haute qualité, prix en Chine

Cible de pulvérisation en chrome de haute qualité, prix en Chine

50,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 ans·5.0
Envoyer demande
Cibles de pulvérisation tubulaires en nickel de haute pureté - Personnalisables pour cellules solaires PV

Cibles de pulvérisation tubulaires en nickel de haute pureté - Personnalisables pour cellules solaires PV

200,00-220,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cibles de pulvérisation en nickel personnalisées Msgp - Idéales pour les applications de dépôt de films minces

Cibles de pulvérisation en nickel personnalisées Msgp - Idéales pour les applications de dépôt de films minces

100,00-120,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cibles de pulvérisation planaires en nickel pur Msgp pour la fabrication de capteurs Garantie de base

Cibles de pulvérisation planaires en nickel pur Msgp pour la fabrication de capteurs Garantie de base

160,00-200,00 $US
50 kilograms(MOQ)
Cibles de pulvérisation en nickel résistant à l'usure pour le revêtement de capteurs électroniques automobiles

Cibles de pulvérisation en nickel résistant à l'usure pour le revêtement de capteurs électroniques automobiles

120,00-140,00 $US
50 kilograms(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en or pur premium 99.99% pour applications avancées

Cible de pulvérisation en or pur premium 99.99% pour applications avancées

200,00 $US
10 g(MOQ)
Vente directe d'usine de 99.99% - 99.999% cible de pulvérisation en matériau d'or

Vente directe d'usine de 99.99% - 99.999% cible de pulvérisation en matériau d'or

200,00 $US
100 g(MOQ)
Cible en or pur pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en or pur pour le revêtement par pulvérisation sous vide

200,00 $US
10 g(MOQ)
Matériau de cible de pulvérisation en or de haute pureté traitement personnalisé

Matériau de cible de pulvérisation en or de haute pureté traitement personnalisé

200,00 $US
100 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Cible de pulvérisation en titane de haute pureté, planétaire pour l'industrie des semi-conducteurs, circuits intégrés, verre de construction et automobile

Cible de pulvérisation en titane de haute pureté, planétaire pour l'industrie des semi-conducteurs, circuits intégrés, verre de construction et automobile

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Prix d'usine 99.95% Cible de pulvérisation en tantale pur métal Ta cibles planaires en tantale

Prix d'usine 99.95% Cible de pulvérisation en tantale pur métal Ta cibles planaires en tantale

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Zr702 Zr705 Cible en tube de zirconium Conductivité thermique Haute pureté Cible de pulvérisation

Zr702 Zr705 Cible en tube de zirconium Conductivité thermique Haute pureté Cible de pulvérisation

1,00-3 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Cible de pulvérisation en zirconium de haute qualité 705 pour des solutions sur mesure aujourd'hui

Négociable
10 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Cible de pulvérisation en zirconium 705 pour des solutions métalliques personnalisées de haute qualité

Négociable
10 Kg(MOQ)
Plaque en zirconium laminée à froid, haute résistance, facile à couper, OEM ODM sur mesure

Plaque en zirconium laminée à froid, haute résistance, facile à couper, OEM ODM sur mesure

Négociable
10 Kg(MOQ)
Résistance à haute température, performance stable, OEM ODM plaque en métal en zirconium sur mesure

Résistance à haute température, performance stable, OEM ODM plaque en métal en zirconium sur mesure

Négociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Envoyer demande
99.99% Cible de pulvérisation en alliage d'or et d'étain de haute pureté

99.99% Cible de pulvérisation en alliage d'or et d'étain de haute pureté

265 000,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation PVD en argent et cuivre, cible plane ronde

Cible de pulvérisation PVD en argent et cuivre, cible plane ronde

8 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Étain Argent Cuivre Cible Sac Cible

Étain Argent Cuivre Cible Sac Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériaux en alliage de haute pureté en étain, argent et cuivre

Matériaux en alliage de haute pureté en étain, argent et cuivre

25 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 ans
Envoyer demande
Cibles de tungstène premium pour les processus de revêtement sous vide

Cibles de tungstène premium pour les processus de revêtement sous vide

56,00-61,00 $US
5 Kg(MOQ)
Plaque de pulvérisation de molybdène ultra haute pureté 99.95% pour des applications de précision

Plaque de pulvérisation de molybdène ultra haute pureté 99.95% pour des applications de précision

61,00-69,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de Molybdène de Haute Pureté 99.95% pour Applications Industrielles 10mm 12mm 15mm 20mm Épaisseur

Plaque de Molybdène de Haute Pureté 99.95% pour Applications Industrielles 10mm 12mm 15mm 20mm Épaisseur

78,00-88,00 $US
100 Kg(MOQ)
Fournisseur de plaque en alliage Tzm de haute pureté, feuille de molybdène résistante à la chaleur

Fournisseur de plaque en alliage Tzm de haute pureté, feuille de molybdène résistante à la chaleur

78,00-88,00 $US
100 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
Envoyer demande
Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Paillettes d'aluminium API-625 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

Pellets d'aluminium APP-512 Cible de pulvérisation haute pureté 99.999% en stock

3 180,00-8 500,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation en aluminium titane Alloy/50 pour machine de revêtement PVD

Cible de pulvérisation en aluminium titane Alloy/50 pour machine de revêtement PVD

3 380,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Cible de pulvérisation en aluminium titane Alti, cible de pulvérisation en titane aluminium Tial

Cible de pulvérisation en aluminium titane Alti, cible de pulvérisation en titane aluminium Tial

3 380,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

Envoyer demande
Matériaux Bruts Haute Pureté 99.7% Lingots de Silicium Cibles Métalliques Lingot de Silicium Pur Cibles de Sputtering

Matériaux Bruts Haute Pureté 99.7% Lingots de Silicium Cibles Métalliques Lingot de Silicium Pur Cibles de Sputtering

2 000,00-2 500,00 $US
22 Tonnes(MOQ)
Cible de pulvérisation de silicium polycristallin de haute pureté 99.999% polysilicium

Cible de pulvérisation de silicium polycristallin de haute pureté 99.999% polysilicium

2 769,00-3 100,00 $US
22 Tonnes(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Envoyer demande
Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'usine Uvtm fabricant en Chine de 18 ans Experiece pour Msvd et PVD pulvérisation continue de revêtement sous vide de ligne de production Vicky 13249153016

Cible de pulvérisation d'usine Uvtm fabricant en Chine de 18 ans Experiece pour Msvd et PVD pulvérisation continue de revêtement sous vide de ligne de production Vicky 13249153016

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Chrome Cr PVD planaire cible le collage sur Cooper Plaque d'appui

Chrome Cr PVD planaire cible le collage sur Cooper Plaque d'appui

Négociable
1 Pièce(MOQ)
PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

PVD rotatif cylindrique en aluminium cible Al pur à 99,999 % cible de pulvérisation (2n-5N)

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
Envoyer demande
Nouveau système de pulvérisation par magnétron PVD pour le revêtement d'or, d'argent et de platine

Nouveau système de pulvérisation par magnétron PVD pour le revêtement d'or, d'argent et de platine

39 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation à magnétron DC de laboratoire avec cible de pulvérisation en argent, or et platine

Coateur de pulvérisation à magnétron DC de laboratoire avec cible de pulvérisation en argent, or et platine

18 000,00-19 500,00 $US
1 set(MOQ)
Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

7 900,00-8 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur plasma triple cible en acier inoxydable en poudre avec 150W alimentation électrique haute tension DC pour instrument chirurgical

Coqueur plasma triple cible en acier inoxydable en poudre avec 150W alimentation électrique haute tension DC pour instrument chirurgical

12 000,00-13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Société Commerciale
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Cible de pulvérisation en molybdène personnalisable avec haute densité pour des applications de revêtement de semi-conducteurs et de verre

Cible de pulvérisation en molybdène personnalisable avec haute densité pour des applications de revêtement de semi-conducteurs et de verre

30,00-80,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de molybdène de haute pureté pour des applications industrielles avancées

Cible de molybdène de haute pureté pour des applications industrielles avancées

30,00-60,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en tungstène rotative premium pour des applications de pulvérisation efficaces

Cible en tungstène rotative premium pour des applications de pulvérisation efficaces

50,00-270,00 $US
10 Kg(MOQ)
Cible de Molybdène Pur Ultra Dense 99.9% 100mm Diamètre Revêtement de Film Mince Optionnel RoHS

Cible de Molybdène Pur Ultra Dense 99.9% 100mm Diamètre Revêtement de Film Mince Optionnel RoHS

30,00-60,00 $US
10 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible en tantale de haute pureté, gris, ductilité pour revêtement sous vide

Cible en tantale de haute pureté, gris, ductilité pour revêtement sous vide

73,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

Surface polie de haute dureté et cible en tube de nickel de pureté supérieure

30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiyuan Yujin Target Material Technology Co., Ltd

Envoyer demande
Cible argentée pour verre Low-E.

Cible argentée pour verre Low-E.

Négociable
1 Kg(MOQ)
Cible argentée pour composants électroniques

Cible argentée pour composants électroniques

Négociable
1 Kg(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cibles de revêtement argent (AG) haute pureté, tubes en alliage d'argent, fils, particules, plaques d'argent, Matériaux de revêtement PVD.

Cibles de revêtement argent (AG) haute pureté, tubes en alliage d'argent, fils, particules, plaques d'argent, Matériaux de revêtement PVD.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

6 900,00-7 000,00 $US
2 sets(MOQ)
Ligne de revêtement miroir en argent par pulvérisation magnétron sous vide en continu

Ligne de revêtement miroir en argent par pulvérisation magnétron sous vide en continu

800 000,00-1 200 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide pour miroir en aluminium argenté

Ligne de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide pour miroir en aluminium argenté

1 200 000,00 $US
1 sets(MOQ)
Système de dépôt de film mince en argent par pulvérisation magnétron sous vide pilote

Système de dépôt de film mince en argent par pulvérisation magnétron sous vide pilote

80 000,00-180 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Silver Plaque cible de pulvérisation magnétron, revêtement en métal précieux Ag Argent cible pour revêtement de pulvérisation magnétron

Silver Plaque cible de pulvérisation magnétron, revêtement en métal précieux Ag Argent cible pour revêtement de pulvérisation magnétron

Négociable
2 Pièces(MOQ)
AG Argent cible de pulvérisation

AG Argent cible de pulvérisation

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Pivoter AG cible faite par pulvérisation de plasma froid, pulvérisation magnétron cible, cible de pulvérisation d'argent

Pivoter AG cible faite par pulvérisation de plasma froid, pulvérisation magnétron cible, cible de pulvérisation d'argent

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Planar Silver cible pour le verre à faible E Film, Film d'électrode de cellules solaires

Planar Silver cible pour le verre à faible E Film, Film d'électrode de cellules solaires

Négociable
2 Pièces(MOQ)

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

Envoyer demande
99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

5,00-200,00 $US
1 Kilogram(MOQ)
Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

40,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Feuilles de tungstène noir usinées à la machine, plaque de tungstène

99.95% Feuilles de tungstène noir usinées à la machine, plaque de tungstène

1,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

Envoyer demande
Cible d'or de haute pureté ua pulvérisation cathodique cible pour le dépôt à film mince semi-conducteurs

Cible d'or de haute pureté ua pulvérisation cathodique cible pour le dépôt à film mince semi-conducteurs

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99% de pureté matériel métal de titane ronde cible Ti Titane pulvérisation cible

99.99% de pureté matériel métal de titane ronde cible Ti Titane pulvérisation cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'argent de haute pureté AG métal pur Pièces pour le dépôt de couches minces

Cible de pulvérisation d'argent de haute pureté AG métal pur Pièces pour le dépôt de couches minces

200,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

Envoyer demande
99.9999% 6n Cibles de pulvérisation en cuivre de haute pureté avec plaque de support

99.9999% 6n Cibles de pulvérisation en cuivre de haute pureté avec plaque de support

335,00-350,00 $US
100 Kg(MOQ)
99.9999% Pellets de cuivre pur 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 pour déposition sous vide &3D impression

99.9999% Pellets de cuivre pur 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 pour déposition sous vide &3D impression

45,99-59,99 $US
100 kilograms(MOQ)
Matériaux d'évaporation en pellets de cuivre de haute pureté 2mm/3mm/5mm personnalisés 6n

Matériaux d'évaporation en pellets de cuivre de haute pureté 2mm/3mm/5mm personnalisés 6n

35,00-67,00 $US
100 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

75,00-95,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation pour la Basse-E80-20verre Nicr wt revêtement PVD

Cible de pulvérisation pour la Basse-E80-20verre Nicr wt revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible Sputtering

Cible Sputtering

18,00-20,00 $US
1 Pièce(MOQ)
13
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