Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
Fournisseur Audité PVD, court-circuit pour le dépôt de vapeur physique, est la technologie pour le dépôt par l'évaporation à film mince ou de vaporisation du matériau sous les conditions de vide. Une chambre à vide est nécessaire pour éviter toute réaction de l'vaporisé matériel avec l'air. Revêtement PVD est utilisé pour fournir de nouvelles, une valeur supplémentaire et des fonctions pour le produit, tels que des couleurs éclatantes, résistance à l'abrasion et réduit la friction des revêtements. En général, HCVAC est spécialisé dans les revêtements PVD.
HCVAC fabrique et fournit toutes sortes de machines de revêtement sous vide PVD. Il est maintenant un leader du marché dans le champ de traitement de vide élevé avec les clients de partout dans le monde. Huicheng produit une gamme complète de machines, offrant différents types de processus : forte évaporation sous vide, multi-arc, DC, pulvérisation pulvérisation magnétron MF, pulvérisation magnétron continu ligne, etc.
Industries appliquée :
Surface de revêtement sous vide pour regarder&horloge, bijoux, outils, de plastique, de tôles en acier inoxydable, etc.
Films décoratifs HCVAC PVD sont couramment utilisés comme un remplacement pour electroplated chrome. Ils peuvent être appliqués directement sur presque tout matériau de substrat et peuvent être déposés dans une large variété de couleurs. Paramètres du procédé au dépôt de chaque couleur sont stockées dans le logiciel des recettes avec les différentes étapes du processus. Une fois le processus de revêtement a commencé, de tous les paramètres de processus sont continuellement surveillés et contrôlés par l'ordinateur de bord logiciel.
| Mode La dimension |
JTL-900 | JTL-1100 | JTL-1250 |
| 900*1000mm | 1100*1000mm | De 1250*1100mm | |
| Mode de revêtement et de confirguration principal |
Six multi-arc cibles + un ensemble de cibles de la colonne + un ensemble de cibles de pulvérisation magnétron rectangle d'avion | Six multi-arc cibles + une paire de twin (MF)cibles de pulvérisation magnétron |
Douze objectifs multi-arc + deux ensembles de l' avion rectangle cibles de pulvérisation magnétron+ une paire de twin (MF)cibles de pulvérisation magnétron |
| Source d'alimentation | Alimentation électrique à arc, DC le magnétron, MF magnétron d'alimentation de puissance, alimentation filament, le pouls d'alimentation, ionisé linéaire source. | ||
| Processus de contrôle des gaz | La qualité de soupape de débitmètre + l'électromagnétisme céramique | ||
| Structure de la chambre à vide | Vertical simple porte(côté), système de pompe à eau postposition, double-refroidissement | ||
| Le système de vide | Pompe de la pompe de la molécule +racines +pompe mécanique(5,0*10 -5 Pa) La diffusion de la pompe pompe +racines +pompe mécanique(5,0*10 -4 Pa) |
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| Température de cuisson de la pièce | La température normale de 350 centi-degré de contrôle PID, le rayonnement du chauffage. |
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| Mode de déplacement de la pièce | Fonction de contrôle de fréquence de rotation : 0-20 la rotation par minute | ||
| Mode de mesure | Affichage du numéro de jauge de vide composite : de l'atmosphère à 1,0*10 -5 Pa | ||
| Mode de contrôle | Manuel/Automatique/PC/ PC + PLC HMI/ quatre choix de mode de contrôle | ||
| Remarque | Nous pouvons concevoir la dimension de l'équipement conformément aux exigences du client technique spéciale. | ||
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