After-sales Service: | 7X24 Hours |
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Warranty: | 1 Year |
Type: | Ligne de Production de Revêtement |
Revêtement: | Revêtement sous Vide |
Substrat: | Metal/Steel |
Certificat: | CE, ISO, RoHS, REACH |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
La machine est principalement conçue pour les pièces de raccord de salle de bain/d'équipement sanitaire. Il est équipé de plusieurs grandes sources d'évaporation d'arc électrique et d'un système de revêtement de pulvérisation au magnétron, pour déposer le film décoratif métallique haute performance sur la surface en laiton, alliage de zinc, acier inoxydable, plastique et autres pièces métalliques. Il peut obtenir tous les types de séries de couleurs métalliques sur le substrat. Le film de revêtement comprend de l'étain, des ZR, T ICN, ZrCN, CRN, CrCN, Laiton, bronze, chrome, etc. La série couleur inclut AF, SN, BN, VF, BV, G, BX, TB, AF, SN, 96CB, CB, TXB, VS, S, BS, BRZ, BGD, PGD, etc. Il peut obtenir différentes couleurs en ajustant les techniques de revêtement. Il est largement utilisé dans le domaine des articles sanitaires et de cuisine.
Avantages de PVD
Augmenter la durée de vie des produits à revêtement PVD
Résistance à la corrosion
Résistance chimique
Résistance à l'usure
Résistance au frottement
Finition décorative supérieure
Revêtement uniforme
Faible coût d'entretien
Respect de l'environnement
Ne ternissera pas/ ne s'estompera pas
Possibilité de revêtement de haute qualité
Mode Dimensions |
HCCA-1215 | HCCA-1612 | HCCA-1619 |
D1250*H1500mm | D1600*H1200mm | D1600*H1900mm | |
Mode de revêtement et configuration principale |
Six cibles multi-arc + un ensemble de cibles de colonne + un ensemble de cibles de pulvérisation de magnétron de rectangle de plan | Six cibles multi-arc + une paire de doubles (MF)pulvérisation de magnétron cibles |
Douze cibles multi-arc + deux ensembles de magnétron rectangle de plan Cibles de pulvérisation + une paire de cibles de pulvérisation de magnétron (MF) doubles |
Source d'alimentation | Puissance électrique à l'arc, puissance au magnétron CC, puissance au magnétron MF, puissance au filament, puissance à impulsion, source ionisée linéaire. | ||
Contrôle des gaz de procédé | Débitmètre de qualité + électrovanne céramique | ||
Structure de la chambre à vide | Porte verticale simple (latérale), postposition du système de pompe, double refroidissement par eau | ||
Système de vide | Pompe à molécules +pompe Roots +pompe mécanique(5.0*10 -5 Pa) Pompe à diffusion +pompe Roots +pompe mécanique(5.0*10 -4 Pa) |
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Température de cuisson de la pièce | Température normale jusqu'à un contrôle PID à 350 degrés, chauffage par rayonnement. |
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Mode de mouvement de la pièce | Rotation publique contrôle de fréquence : 0-20 rotations par minute | ||
Mode de mesure | Affichage numérique jauge de vide composite : de l'atmosphère à 1.0*10 -5 Pa | ||
Mode de contrôle | Manuel/automatique/PC/PLC + HMI/PC quatre choix de mode de contrôle | ||
Remarque | Nous pouvons concevoir la dimension de l'équipement en fonction des exigences techniques spéciales du client. |
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