| Type: | Diamant |
|---|---|
| Classification de Diamond: | Artificiel |
| Caractéristique: | Haute stabilité thermique |
| Caractéristiques du Natural Diamond: | haute résistance |
| Synthèse de nitrure de bore cubique Méthode: | dépôt chimique en vapeur |
| Demande: | outils diamantés, semences, utilisation optique et électronique |
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Fournisseur Audité Quel Est CVD Diamond.
CVD Diamond (aussi Connu Comme Diamants synthéTiques, chemical Vapor Deposition diamond, Blouse de laboratoire , Laboratoire de Diamant - Diamant Diamant CrééE ) est Produite Dans Un Processus artificiel, Par Opposition Aux Diamants naturels, Qui Sont CrééS Par des Processus géOlogiques.
Il existe plusieurs méThodes utiliséEs pour produire des diamants synthéTiques.
La méThode originale utilise haute pression et haute tempéRature (HPHT) Et est encore largement utiliséEn raison de son coûT relativement faible.
Le processus comporte de grandes presses qui peut peser des centaines de tonnes de produire une pression de 5 GPa à1500 °C.
La seconde méThode, en utilisant le déPôT chimique en phase vapeur (CVD), CréE un plasma de carbone sur un substrat sur lequel les atomes de carbone déPôT àLa forme de diamant.
Les avantages de la croissance CVD Diamond comprennent la capacitéàSe déVelopper sur de grandes zones de diamants et sur divers substrats et de l'amende le contrôLe de l'impuretéS chimiques et donc les propriéTéS de la Diamond produites.Contrairement aux processus HPHT, CVD ne néCessite pas de hautes pressions, comme la croissance se produit géNéRalement àDes pressions sous 27 kPa
| 1 | La concentration en azote | 100ppm, 10 ppb |
| 2 | La toléRance latéRale | -0,1/+0.1mm |
| 3 | ToléRance d'éPaisseur | -0,05/+0.05mm |
| 4 | Bords | CoupéAu laser |
| 5 | Haut et bas de la rugosité | , Poli ra<30nm |
| 6 | ConductivitéThermique | 1600-1800 W/mK |
| 7 | L'orientation | 2pt <110>, 4pt<100> |
| 8 | Grade | MéCaniques, optiques, thermiques, éLectronique |
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