Application: | Industrie, École, Laboratoire |
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Customized: | Customized |
certificat: | CE |
Structure: | bureau |
Matériel: | Acier inoxydable |
Type: | Tubular Furnace |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
Ce produit est un hybride de plasma 1200ºC enhanced DéPôT de vapeur chimique physique (HPCVD) Zone de chauffage tube rotatif double systèMe de four.L'éQuipement comprend une zone de chauffage tube double four, un ensemble de filament de tungstèNe source d'éVaporation, un ensemble de géNéRateur de plasma et un ensemble de déBitmèTre massique du systèMe.Son principe de fonctionnement est de s'éVaporer le réActif àLa fin d'admission de gaz par le biais de la source d'éVaporation et de le charger dans la zone de chauffage du tube four par le biais de l'air d'effectuer de la CVD réAction.En mêMe temps, la réAction est promu par le plasma d'améLioration.Il est appropriéPour le traitement thermique des composéS inorganiques de poudre composite et de l'uniformitéDe revêTement de surface (p.Ex.PréParer les poudres àCathode de batterie Li-Ion avec revêTements conductrices sur un éChantillon de surface).
ParamèTres techniques :
Deux four zone chauffage tube |
ModèLe de produit |
CY-O1200-50ITI |
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MatéRiau du tube de four |
Le quartz de haute pureté |
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DiamèTre du tube |
50mm |
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Longueur du tube de four |
1200mm |
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Chambre du four longueur |
440mm |
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Longueur de la zone de chauffage |
200mm+200mm |
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La tempéRature de fonctionnement |
0~1100ºC |
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PréCision de contrôLe de tempéRature |
±1 °C |
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Mode de commande de tempéRature |
30 ou 50 programme de segment de la commande de tempéRature |
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Mode d'affichage |
HD plein éCran tactile LCD couleur |
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MéThode d'éTanchéIté |
Bride de vide en acier inoxydable 304 |
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L'alimentation |
AC :2.5KW 220V 50/60 Hz |
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SystèMe de sortie RF |
Gamme de puissance |
0~500W réGlable |
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FréQuence de travail |
13.56MHz+0.005 % |
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Mode de travail |
Sortie continue |
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Mode d'impéDance appariéEs |
Il peut êTre appariéS et les bougies est réPartie uniforméMent tout au long de la fournaise tube |
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StabilitéD'alimentation |
≤2 W |
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Puissance réFléChie de normales de travail |
≤3W |
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AmplifiéLa puissance réFléChie |
≤70W |
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Composante harmonique |
≤-50 dBc |
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L'efficacitéGlobale |
≥70 % |
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Le facteur de puissance |
≥90 % |
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Tension d'alimentation/fréQuence |
Une seule phase AC (187V~153V) fréQuence 50/60 Hz |
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Mode de contrôLe |
Le contrôLe interne/PLC QuantitéAnalogique/communication RS-232/485 |
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Les paramèTres de protection de l'alimentation |
DC protection contre les surintensitéS, amplificateur de puissance au cours de la protection de la tempéRature, la puissance réFléChie de la protection |
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MéThode de refroidissement |
Refroidissement par air forcé |
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Zone de préChauffage |
En vertu de Ar, la fréQuence radio et la bobine d'alimentation coopéRer avec les bougies pour remplir le tube de four |
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Bateau d'éVaporation |
La tempéRature de fonctionnement |
1300ºC |
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Source d'éVaporation |
Ordinateur de poche Tungsten Panier en fil, creuset de l'alumine conique en option |
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Le thermocouple |
Thermocouple de type S |
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Courant de travail |
≤30A |
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Puissance max. |
500W |
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SystèMe de distribution de gaz |
Le déBitmèTre |
Quatre canaux déBitmèTre massique |
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Plage de déBit |
Le MFC1 gamme :0~200sccm MFC2 gamme :0~200sccm Le MFC3 gamme :0~500sccm MFC4 gamme :0~500sccm Correspondant àDes gaz H2, CH4, N2, Ar. |
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La préCision de mesure |
±1,5%F.S |
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RéPéTabilité |
±0,2%FS |
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PréCision linéAire |
±1%F.S. |
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Le temps de réPonse |
≤4s |
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Le travail sous pression |
-0.15Mpa~0.15Mpa |
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Le contrôLe de flux |
ContrôLe d'éCran tactile LCD, affichage numéRique, chaque canal gaz contient la soupape àPointeau pour contrôLer individuellement. |
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Interface d'admission |
Il peut êTre connectéAvec 1/4NPS ou 6 mm de diamèTre extéRieur du tuyau en acier inoxydable |
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Interface de sortie |
Il peut êTre connectéAvec 1/4NPS ou 6 mm de diamèTre extéRieur du tuyau en acier inoxydable |
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La méThode de connexion |
Connecteur double féRule |
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La tempéRature de fonctionnement |
5~45ºC |
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Le préMéLange de gaz |
ÉQuipéD'premixing terminal de gaz |
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SystèMe d'éChappement |
ModèLe de produit |
CY-GZK103-A |
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Pompe moléCulaire |
Pompe Turbomolecular |
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La pompe d'appui |
En deux éTapes de la pompe rotative àAilettes |
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Taux de pompage |
Pompe moléCulaire :600L/s |
Le pompage de la performance globale :30 minutes vide peut atteindre :5×10E-3Pa |
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Pompe rotative àAilettes :1,1 l/s |
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Le vide absolu |
5×10E-4Pa |
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Port de pompage |
KF40 |
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Interface d'éChappement |
KF16 |
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Mesure de déPression |
Jauge de vide composé |
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