• Hcvac MF PVD Magnetron, système de pulvérisation à fréquence moyenne
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Hcvac MF PVD Magnetron, système de pulvérisation à fréquence moyenne

After-sales Service: Free Installing and Training, Technical Support
Warranty: One Year Limited Warranty
Type: PVD Vacuum Coating Machine
Revêtement: Revêtement sous Vide
Substrat: Acier
Certificat: CE, ISO

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Membre Diamant Depuis 2009

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Fabricant/Usine

Info de Base.

N° de Modèle.
JTL-10910, JTL-1110, JTL-1212
État
Nouveau
tapez 1
système de dépôt de crapaudine magnétron
technologie de revêtement
pulvérisation au magnétron+ revêtement d′arc-ion
taille de la chambre
d1100mm*h1000mm, d1200mm*h1200mm
film de revêtement
étain, tic, ticn, tialn, crn, cu, au, etc
couleur de revêtement
argent, doré, noir, or rose, bronze
matériau de revêtement
acier inoxydable, alliage métallique, céramique
application
bijoux, montre, coque de téléphone mobile etc
mode de contrôle
automatique et manuel intégrés
modèle
jtl-0910, jtl-1110, jtl-1312
marque
hcvac, dongguan, chine
Paquet de Transport
Wooden Package
Spécifications
customized
Marque Déposée
HCVAC
Origine
China
Code SH
8543300090

Description de Produit

Machine de revêtement par pulvérisation MF PVD Magnetron, système de pulvérisation moyenne fréquence


Pulvérisation de magnétron

Qu'est-ce que la technologie de pulvérisation de magnétron ?
Le craquage magnétron est une autre forme de technologie de revêtement PVD.

Revêtement plasma
L'expectorations au magnétron est un procédé de revêtement au plasma par lequel le matériel d'expectorations est éjecté en raison du bombardement des ions sur la surface cible. La chambre à vide de la machine de revêtement PVD est remplie d'un gaz inerte, tel que l'argon. En appliquant une haute tension, une décharge luminescente est créée, ce qui entraîne une accélération des ions à la surface cible et un revêtement plasma. Les ions argon éjectent les matériaux de pulvérisation de la surface cible (pulvérisation), ce qui entraîne une couche de revêtement pulvérisée sur les produits devant la cible.

Pulvérisation réactive
Souvent, un gaz supplémentaire comme l'azote ou l'acétylène est utilisé, qui réagit avec le matériau éjecté (pulvérisation réactive). Cette technique de revêtement PVD permet d'obtenir une large gamme de revêtements à pulvérisation. La technologie de pulvérisation au magnétron est très avantageuse pour le revêtement décrétif (par G. Ti, Cr, ZR et les nitrures de carbone), en raison de sa nature lisse. Le même avantage rend le pulvérisation de magnétron largement utilisé pour le revêtement tribologique sur les marchés automobiles (par G. CRN, Cr2N et diverses combinaisons avec revêtement DLC - revêtement diamant carbone).

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System

Champs magnétiques
Le crachat magnétron est quelque peu différent de la technologie générale de crachat. La différence est que la technologie de pulvérisation du magnétron utilise des champs magnétiques pour maintenir le plasma devant la cible, intensifiant le bombardement des ions. Un plasma très dense est le résultat de cette technologie de revêtement PVD.

La technologie de pulvérisation du magnétron se caractérise par :
Cible refroidie par eau, donc peu de chaleur de rayonnement est générée
Presque tous les matériaux cibles métalliques peuvent être pulvérisés sans décomposition
Les matériaux non conducteurs peuvent être pulvérisés à l'aide de radiofréquences (RF)
Ou puissance moyenne fréquence (MF)
Les revêtements d'oxyde peuvent être pulvérisés (pulvérisation réactive)
Excellente uniformité de couche
Revêtements très lisses avec des projections (sans gouttelettes)
Les cathodes (jusqu'à 2 mètres de long) peuvent être placées dans n'importe quelle position, donc à une hauteur élevée
Flexibilité de la conception de l'équipement de pulvérisation

Huicheng fabrique et fournit toutes sortes de machines de revêtement sous vide PVD. Aujourd'hui, il est un leader du marché dans le domaine du traitement à vide élevé avec des clients du monde entier. Huicheng produit une gamme complète de machines, offrant différents types de processus : évaporation sous vide élevée, multi-arc, pulvérisation DC, pulvérisation MF magnétron, ligne de pulvérisation continue magnétron, etc

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System
Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System


Industries appliquées :

Revêtement de surface sous vide pour montres et horloges, bijoux, outils, plastique, tôle d'acier inoxydable, etc


Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System
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HCVAC peut vous aider à entrer facilement dans le revêtement PVD grâce à notre machine de revêtement sous vide et à notre gamme complète de services. Nous vous fournirons la technologie la plus adaptée à vos besoins.

Nous allons créer une solution de revêtement spéciale pour chaque client ; nous associerons les techniques de production complètes pour répondre à vos besoins, afin d'assurer une grande efficacité de production.

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System


Contact: Lillian Yang

 


Veuillez nous envoyer vos exigences détaillées. Nous vous fournirons la meilleure solution !



Paramètres techniques :
Mode
Dimensions
JTL-900 JTL-1100 JTL-1300 JTL-1600
Φ9001000mm Φ11001000mm Φ13001200 mm Φ16001200 mm
 
Mode de revêtement et configuration principale
3 paires arc électrique + 2 paires de cathode rectangulaire plane 6 paires arc électrique + 2 paires cathode cylindrique + a paires plan rectangulaire cathode 5 paires arc électrique + 4 paires  cathode cylindrique + a paires plan rectangulaire cathode 6 paires arc électrique + 8 paires cathode cylindrique + a paires plan rectangulaire cathode
Application revêtement décoratif en métal
Types de film    Films métalliques,films diélectriques,films composés,films de réaction,films de fonction Muti-layer
Source d'alimentation Alimentation électrique en arc électrique, alimentation en magnétron CC, alimentation en magnétron MF.alimentation en tension de polarisation d'impulsion.alimentation en source d'ions.
Contrôle des gaz de procédé Débitmètre de qualité + électrovanne céramique
Structure de la chambre à vide Porte verticale simple (latérale), postposition du système de pompe, double refroidissement par eau
Système de vide Pompe à molécule(pompe à diffusion)+pompe Roots +pompe mécanique  (8.0*10 -4 Pa)
Vitesse de pompage Temps de pompage inférieur à 15 minutes, de la pression atmosphérique à 310 -3 Pa
Température de cuisson de la pièce  
Température normale jusqu'à un contrôle PID à 350 degrés, chauffage par rayonnement.
Mode de mouvement de la pièce Rotation publique contrôle de fréquence : 0-20 rotations par minute
Mode de mesure Affichage numérique jauge de vide composite : de l'atmosphère à 1.0*10 -5 Pa
Mode de contrôle Système de contrôle d'automatisation complet PC+PLC/PC+HMI
Remarque Nous pouvons concevoir la dimension de l'équipement en fonction des exigences techniques spéciales du client.


Pourquoi un système HCVAC ?
 
Plus de 1000 usines installées dans le monde entier
Temps de cycle rapides
Capacité de production élevée avec faible consommation d'énergie
Plus de temps de mise en service grâce à la facilité de chargement/déchargement et à la faible charge entretien
Productivité élevée avec un seul opérateur
Chambres de traitement en acier, conçues pour durer
Écologique
Design compact
Option PVD disponible sur toutes les usines
garantie de 1 an sur les composants et garantie de fonctionnement minimum de 12 ans la vie
Réseau mondial complet de conseil, d'ingénierie et de service après-vente renommé

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