Tampon de polissage durable à haute efficacité pour la planéité des surfaces de wafers en silicium 0.002mm

Détails du Produit
Personnalisation: Disponible
Forme: cercle
utilisation: polissage de surface du matériau
Membre d'Or Depuis 2018

Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées

Fournisseur Audité Fournisseur Audité

Audité par une agence d'inspection indépendante

Année de Création
2010-01-12
Nombre d'Employés
47
  • Tampon de polissage durable à haute efficacité pour la planéité des surfaces de wafers en silicium 0.002mm
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Info de Base

N° de Modèle.
KPGD-1
précision
1 micron
avantages
durabilité
planéité optimale
0,001 mm
Paquet de Transport
emballage standard pour exportation
Spécifications
polyuréthane, cuir, tissu d′amortissement
Marque Déposée
kizi
Origine
Dongguan, China
Capacité de Production
20 pièces/mois

Description de Produit

  KIZI fournit le plus efficace et des solutions fiables pour flat clapotis et le polissage des composants utilisés dans le domaine médical, des joints mécaniques, de la céramique,l'automobile,photoniques optique,MEMS,galette et composé d'applications semi-conducteurs et d'autres marchés industriels.(*Nous pouvons développer et produire de meulage et polissage connexes ingrédients conformément à l'application effective des besoins des clients)

Tampon de polissage de haute efficacité
L'utilisation:utilisés dans le verre optique, de pièces de boulonnerie, verre de saphir, substrat LED Pro, Crystal et les autres champs de polissage. Les documents comprennent les plaquettes de polissage de polyuréthane, plaquettes, de polissage en cuir synthétique micronisé Polishing Pads, amortissement du tissu et des tissus non tissés, etc.
Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm
Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm
 
Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm
Fonction de tampon à polir
1.Le liquide à polir est efficacement et uniformément transportés à différents domaines de l'polishings PAD;
2.Après polissage,les réactifs et les débris qui sont entièrement a réagi par réaction chimique sont déchargées en douceur pour atteindre l'enlèvement d'effet.
3.Maintenir le liquide à polir le film sur la surface du tampon de polissage de sorte que la réaction chimique peut être entièrement effectuée.
4.Maintenir le processus de polissage stable et la surface ne déforme pas,de manière à obtenir une meilleure morphologie de surface.


Meilleure planéité≤0,001 mm. Meilleure rugosité≤Ra0.01μm

Cas de polissage

Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mmDurable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm
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Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm
    Dongguan KIZI Fabrication de machines de meulage de précision Co., Ltd. a été créé en 2010, surtout de la recherche et développement, la production, fabrication, vente de haute précision de la machine de meulage d'avion, la précision de la machine de polissage d'avion et d'autres équipements CNC et de leur correspondant à des consommables.
   Notre entreprise offre une panoplie de produits qui peuvent répondre à vos demandes multiples. Nous adhérons aux principes de gestion de la " qualité d'abord, client en premier et le crédit-based" depuis la création de la société et de toujours faire de notre mieux pour satisfaire les besoins potentiels de nos clients. Notre entreprise est sincèrement disposée à coopérer avec les entreprises de tous les coins du monde afin de réaliser une situation gagnant-gagnant puisque la tendance de la mondialisation économique a mis au point avec force anirresistible.
   Nos produits sont largement utilisés dans le processus de meulage et polissage des métaux et de non-métal (y compris de la céramique, saphir et le substrat de feuilles de la fenêtre Feuille, substrat de carbure de silicium, plaquette de nitrure de gallium, tranche de silicium et d'autres matériaux semi-conducteurs), et de la pièce ne peut obtenir la meilleure planéité de 1μ m et la rugosité de 0.01μm.


Les brevets
Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm

Labs

Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm
Des expositions

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Notre Service

1.  L'usine avec prix competative,de haute qualité et la stabilité.
2.  La R&D Dep. Avec 20 techniciens, 5 d'entre eux depuis des décennies d'expérience.
3.  La charge du client de l'échantillon gratuit de décisions.
4.  Service après-vente terminée et l'expertise le soutien de Taiwan.



L'emballage et livraison
L'emballage de détails : l' emballage, 1 pcs/carton.
Détails de livraison :  Il est généralement 5-10 jours si les marchandises sont en stock. ou il est 15-30 jours si les marchandises ne sont pas en stock, il est selon la quantité.

Durable High Efficiency Polishing Pad for Silicon Wafers Surface Flatness 0.002mm

FAQ
Q : Vous êtes Trading Company ou un fabricant ?
A: Nous sommes fabricant.
Q : Combien de temps est votre délai de livraison ?
A : il est généralement 5-10 jours si les marchandises sont en stock. ou il est 15-30 jours si les marchandises ne sont pas en stock, il est selon la quantité.
Q : Avez-vous de fournir des échantillons ? Est-il gratuit ou extra ?
A:Non, nous ne pourrions pas offrir de la machine pour l'échantillon gratuit mais peut fournir de charge de l'épreuvage libre pour le client.

 

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