Type: | Stainless Steel Heating Equipment |
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Structure: | Horizontal Type |
Brand: | Haoyue |
Fournisseurs avec des licences commerciales vérifiées
Stabilité élevée de l'équipement / bonne uniformité de température / chauffage rapide Vitesse / précision de contrôle élevée / bonnes performances de sécurité
Le dépôt de vapeur chimique induit thermique (CVD) est une méthode puissante pour déposer des revêtements protecteurs sur divers diélectriques, semi-conducteurs et matériaux métalliques, que ce soit dans des États monocristalleux, polycristallins, amorphes ou épitaxiaux, sous de grandes ou petites formes. Les matériaux de revêtement typiques incluent le carbone pyrolytique, le carbure de silicium et le nitrure de bore. En utilisant des précurseurs synthétiques, le revêtement est très pur et répond aux exigences typiques de l'industrie des semi-conducteurs. Selon les paramètres du processus, il peut y avoir plusieurs couches, allant d'une ou plusieurs couches atomiques à des couches solides de protection ou fonctionnelles d'épaisseurs allant de 10 nanomètres à des centaines de micromètres, ainsi que des composants monopuce d'épaisseurs allant jusqu'à 100 micromètres, voire jusqu'à plusieurs millimètres.
L'infiltration de vapeur chimique induite par la chaleur (CVI) est une technique liée à la CVD, qui consiste à infiltrer des préformes poreuses ou de fibres dans un matériau de matrice pour préparer des composants composés de matériaux composites ayant des propriétés mécaniques améliorées, une résistance à la corrosion, une résistance à la chaleur et une faible contrainte résiduelle.
Adoption d'une structure verticale d'ouverture de porte inférieure/supérieure : grande précision de chargement et de déchargement, fonctionnement facile ;
En adoptant une technologie de contrôle avancée, il peut contrôler précisément le débit et la pression du MTS, stabiliser le débit d'air de sédimentation dans le four et avoir une petite plage de fluctuations de pression;
Bonne uniformité de la température : l'uniformité moyenne de la température est de ±5 °C ; en adoptant un chemin de gaz de sédimentation multi-canaux, le champ d'écoulement est uniforme, il n'y a pas de coins morts de sédimentation et l'effet de sédimentation est bon ; chambre de sédimentation entièrement fermée, avec une bonne étanchéité e˜ect et une forte capacité d'anti-pollution ;
Bonnes performances de sécurité : adoption du contrôle de détection de pression HMI+PLC+PID, sûr et fiable ;
Traiter efficacement les gaz d'échappement très corrosifs, les gaz inflammables et explosifs, la poussière solide et les produits visqueux à point de fusion faible générés par la sédimentation ; système de traitement des gaz d'échappement efficace en plusieurs étapes, écologique, capable de recueillir efficacement le goudron et les sous-produits, facile à nettoyer ;
Adopter une unité de vide résistante à la corrosion avec un temps de travail long et un taux d'entretien extrêmement faible ;
Numérotation | Modèle | Taille de la chambre (mm) | Vide absolu (Pa) | Température de fonctionnement (ºC) | Applications | |
C4VGR16 | VVCgr-56/60-1600 | φ560*600 | 1 | 1600 | CVD/CVI | |
C6VGR16 | VVCgr-84/90-1600 | φ840*900 | 1 | 1600 | CVD/CVI | |
C8VGR16 | VVCgr-110/120-1600 | φ1100*1200 | 1 | 1600 | CVD/CVI | |
C10VGR16 | VVCgr-140/200-1600 | φ1400*2000 | 1 | 1600 | CVD/CVI |
Les fours chimiques de dépôt à la vapeur (carbure de silicium) peuvent être utilisés pour les revêtements résistants à l'oxydation de surface et la modification de matrice de matériaux utilisant le silane comme source de gaz. Le four de dépôt de vapeur chimique vertical (carbone sédimentaire) peut être utilisé pour les matériaux utilisant des gaz d'hydrocarbures (tels que C3H8, CH4, etc.) comme sources de carbone.
Traitement CVD/CVI isotherme de surface ou de substrat. Les fours à dépôt de vapeur chimique horizontal (SIC, BN) peuvent être utilisés pour le revêtement de surface de matériaux, la modification de matrices, la préparation de matériaux composites, etc. Substrats pour plaquettes épitaxiales, matériaux réfractaires haute température pour fours à cristal, moules de pliage à chaud, creusets à semi-conducteurs, matériaux composites à base de céramique, etc
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