• Cible de pulvérisation iridium IR à 99.95 % pour la position de couches minces
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Cible de pulvérisation iridium IR à 99.95 % pour la position de couches minces

Classification: Métal Précieux
Paquet de Transport: Wooden Box Package
Spécifications: 99.95%
Marque Déposée: rheniumet
Origine: China

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Info de Base.

Code SH
4301962010
Capacité de Production
10000piece/Year

Description de Produit

Les cibles de pulvérisation d'iridium ont les mêmes caractéristiques que le métal iridium. L'iridium a un point de fusion pouvant atteindre 2466 ° C, des propriétés chimiques stables, peut maintenir de bonnes propriétés mécaniques dans l'atmosphère au-dessus de 1600 ° C, et possède une bonne résistance à l'oxydation à des températures élevées, et peut résister à la corrosion d'acides forts, de bases fortes, de réactifs de fusion et de silicates à haute température. Il s'agit d'un métal résistant à la corrosion connu et peut résister à toute attaque acide. Bien que seuls certains sels fondus et halogènes corrodent l'iridium solide, la poussière fine d'iridium écrasée est plus réactive et inflammable.
 
Nom: Iridium  CAS : 7439-88-5
 Symbole : IR  Conductivité thermique : 147 W/(m·K)
 Poids atomique:192.22  Densité : 22,56 g/cm3
 Pureté : 3N5  Résistivité : 47.1 Nω·m (à 20 °C)
 
Spécifications  Statut    Pureté Taille
Iridium de haute pureté Cible  3N5 1-10 pouces, taille non conventionnelle peut être personnalisée

 

Processus de fabrication cible de pulvérisation d'iridium
Raffinage (procédé d'électrolyse à trois couches) - fusion et coulage (four à résistance - moulage semi-continu) - affinement du grain (traitement thermomécanique) - nettoyage - emballage final - nettoyage pour vide

Application de cibles de pulvérisation d'iridium
Les cibles de pulvérisation d'iridium sont utilisées pour le dépôt de couches minces, couramment utilisées dans les piles à combustible, la décoration, les semi-conducteurs, les écrans, les équipements à LED et photovoltaïques, les revêtements en verre, etc
 

Les autres applications de l'iridium sont les suivantes :
- durcisseur pour alliages spéciaux.
- un alliage d'iridium utilisé pour soutenir les compas et les stylos.
- creuset d'iridium.
- film iridium, utilisé comme film protecteur ou contact électrique lourd.
- piles à combustible.
 

 Analyse chimique topique  

 Élément d'impureté ≯(%)
PT RU C. droit PD Au AG Cu FE Ni
0.02 0.02 0.02 0.01 0.01 0.005 0.005 0.005 0.005
Al Po Mn Mg N° de série Si Zn Env  
0.005 0.005 0.005 0.005 0.005 0.005 0.005 0.005  

Profil de l'entreprise

 
99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition

Notre service

 

99.95% IR Iridium Sputtering Target for Thin Film Deposition

FAQ

 

Q: Êtes-vous une société de commerce ou un fabricant ?
R: Nous sommes usine.

Q: Combien de temps votre délai de livraison est-il?
R: En général, il est de 3-7 jours si les marchandises sont en stock. Ou de 15-20 jours si les marchandises ne sont pas en stock, c'est selon
quantité.

Q: Fournissez-vous des échantillons ? est-il gratuit ou supplémentaire ?
R: Oui, nous pourrions offrir l'échantillon, mais nous avons besoin de payer le coût de l'échantillon et le fret puisque notre produit est de grande valeur.

Q: Quelles sont vos conditions de paiement ?
A : paiement<=1000 USD, 100 % à l'avance. Paiement>=1000USD, 30% T/T à l'avance, solde avant expédition.
Si vous avez une autre question, veuillez nous contacter comme suit :

 

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