Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique de laboratoire avec table d'échantillons à déplacement réciproque

• Personnalisation: Disponible
• Champ d'application: Aérospatiale, Automobile, Électronique, Marin, Dispositifs médicaux, Pétrole et gaz, Production d'électricité, Chemins de fer
• Matériau de revêtement: Métal
• N° de Modèle.: Made-to-order
• Source d'alimentation: Électrique
• Paquet de Transport: boîtier en bois
• Spécifications: personnalisé
• Marque Déposée: rj

Description de Produit

Le   cratère de pulvérisation magnétron cible unique de bureau  est un   équipement de cratère de pulvérisation magnétron hautes performances et économique développé indépendamment par notre société, qui a les caractéristiques de la miniaturisation et de la standardisation. La cible magnétron peut être sélectionnée de 1 pouce et 2 pouces, et les clients peuvent choisir en fonction de la taille du substrat à platir ; l'alimentation est de 150 W CC, qui peut être utilisé pour le revêtement de pulvérisation métallique. L'instrument de revêtement est équipé d'une interface d'évent, qui peut être remplie de gaz de protection. Si le client a besoin de mélanger du gaz, vous pouvez contacter le personnel pour configurer un débitmètre massique de haute précision afin de répondre aux besoins de l'expérience. L'instrument est équipé d'un ensemble de pompes moléculaires turbo avancées, le vide ultime peut atteindre 1,0E-5Pa, et d'autres types de pompes moléculaires sont également disponibles à l'achat.

Plage d'applications de cratère de pulvérisation magnétron cible unique de bureau :

L'équipement peut être utilisé pour préparer des films ferroélectriques monocouches, des films conducteurs, des films en alliage, etc. Par rapport à un équipement similaire, cet instrument de revêtement de pulvérisation magnétron à cible unique est compact, hautement intégré, compact et peut être placé sur une table pour utilisation. Il s'agit d'un équipement idéal pour préparer des films de matériaux en laboratoire.

Paramètres techniques du cratère de pulvérisation magnétron à cible unique :

nom du produit	Coater magnétron cible unique de bureau avec table d'échantillons réciproque
Numéro de produit	RJ-MSZ180-50F-DC-Q.
Table d' échantillonnage alternative	taille		50*100 mm
	Vitesse alternative		0 à 50 mm/s.
Pistolet cible magnétron	Plan cible		Cible plate circulaire
	Vide de pulvérisation		10 PA~0,2 Pa
	Diamètre cible		2 pouces
	Epaisseur cible		Recommandé 2  ~  5 mm
	Température cible		<=65 ºC
Chambre à vide	Taille de l'empreinte		Environ Φ180mm × H 215 mm
	Matériau de la cavité		Quartz haute pureté
	Fenêtre d'observation		Transparence omnidirectionnelle
	Méthode d'ouverture		Couvercle supérieur amovible
alimentation	Alimentation CC		150 W max
	Quantité		1
Système de pompe moléculaire	Pompe de foreline	Pompe à palettes rotative	VRD-4
		Vitesse de pompage	1,1L/S
		Vide ultime	5*10-1Pa
	Pompe moléculaire	Vitesse de pompage moléculaire	600 L/S
		Vitesse nominale	2 000 tr/min
		Vide ultime	5*10-5Pa
		Valeur de vibration	<=0,1 um
		Heure de début	<=4,5min
		Temps d'arrêt	<7 min
		méthode de refroidissement	Refroidissement par eau + refroidissement par air
Refroidisseur d'eau	Température de l'eau de refroidissement		<=37 ºC
	Débit d'eau de refroidissement		10 l/min
Tension d'alimentation			220 V CA 50 Hz

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