| Personnalisation: | Disponible |
|---|---|
| Type: | Céramique |
| Forme: | Rond |
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Nom du produit: Cible de pulvérisation de RuO2 haute pureté
Catégorie : matériau cible
Mots-clés : matériaux de revêtement à couche mince, cible de pulvérisation RuO2, oxyde de ruthénium de haute pureté, matériau de dépôt de couche mince, applications de revêtement de pulvérisation, cible industrielle de semi-conducteurs, matériau de revêtement optique, cible de pulvérisation céramique, Matériau de revêtement PVD, cible de dioxyde de ruthénium, cible de pulvérisation personnalisée
Description : améliorez vos processus de dépôt de couches minces avec notre cible de pulvérisation RuO2 haute pureté. Cette cible est idéale pour diverses applications de revêtement de pulvérisation dans les industries des semi-conducteurs et de l'optique. Fabriquée à partir d'oxyde de ruthénium de haute pureté, cette cible en céramique assure d'excellentes performances et une longue durée de vie. Il s'agit d'un matériau de revêtement PVD fiable qui garantit un dépôt de film précis et uniforme. Personnalisée pour répondre à vos besoins spécifiques, notre cible de pulvérisation RuO2 est le choix idéal pour vos besoins de revêtement de film fin. Faites confiance à la qualité et à l'efficacité de notre produit pour améliorer vos opérations.
