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Fournisseur Audité Ce type de petite machine de pulvérisation de plasma adopte une méthode de pulvérisation en deux étapes, largement utilisée pour la préparation d'échantillons SEM ou l'expérience de revêtement métallique. En utilisant le procédé de pulvérisation de plasma à basse température, il n'y a pas de température élevée pendant le processus de revêtement et il n'est pas facile de produire des dommages thermiques.
Ce petit cratère à plasma utilise un système de contrôle PLC, un écran tactile, facile à apprendre et à utiliser. Ce modèle de machine est également équipé d'un plateau d'échantillonnage rotatif, qui peut améliorer efficacement l'uniformité du revêtement. Ce petit instrument de pulvérisation au plasma utilise un système de commande PLC, toutes les opérations sur écran tactile, facile à apprendre et à utiliser. L'équipement est de petite taille et d'apparence magnifique, ce qui en fait le meilleur choix pour les expériences de revêtement en laboratoire.
Application
Il peut être utilisé pour le revêtement des becs métalliques, en particulier pour les revêtements métalliques tels que l'or, l'argent et le cuivre.
| Modèle du produit | TN-PLZ180-III-DC-Q. | |
| Étape d'échantillonnage | Taille | 100 mm |
| Distance entre le stade de l'échantillon et la surface cible | hauteur réglable de 20 à 35 mm | |
| Vitesse de rotation | réglable de 1 à 20 tr/min | |
| Température de chauffage | ≤500 ºC | |
| Précision du contrôle de la température | ±1 ºC contrôle de température PID | |
| Source de pulvérisation plasmatique | Quantité | 2 enchesx1/2/3 |
| Méthode de refroidissement | Refroidissement par eau/refroidissement naturel | |
| Chambre à vide | Taille de la chambre | φ180mm x 200 mm |
| Fenêtre d'observation | Visibilité omnidirectionnelle | |
| Matériau de la chambre | Quartz haute pureté | |
| Méthode ouverte | Couvercle supérieur amovible | |
| Matériau des couvercles supérieur et inférieur | acier inoxydable 304 | |
| Orifice de pompage | KF16 | |
| Orifice d'admission | connecteur à embout de 1/4 pouces | |
| Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation c.c. x1 |
| Puissance de sortie | Max. 150 W. | |
| Puissance de pulvérisation | 1 200 V. | |
| Courant de pulvérisation max | 50 mA | |
| Système de vide | Type de pompe à vide | Pompe à vide rotative à palettes à deux étages |
| Orifice de pompage | KF16 | |
| Interface d'échappement | KF16 | |
| Débit de pompage | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
| Vide ultime | ≥ 0,1 Pa | |
| Mesure de vide | Jauge de dépression de résistance | |
| Autres | Alimentation | 220 V CA 50 Hz |
| Puissance totale | 1,5 kW/2 kW | |
| Dimensions | 570 mm * 450 mm * 500 mm | |
| Poids | 30kg | |
Q. êtes-vous un fabricant ou une société de commerce?
R. nous sommes des fabricants d'instruments de laboratoire professionnels, nous avons leur propre équipe de conception et leur propre usine, nous avons une expérience technique mature et nous pouvons garantir la qualité des produits et le prix optimal.
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