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Fournisseur Audité Cratère de bureau à plasma avec pompe à vide pour film conducteur
Ce type de petite machine de pulvérisation de plasma adopte une méthode de pulvérisation à un seul étage, largement utilisée pour le SEM
préparation d'échantillons ou expérience de revêtement métallique.
2. En utilisant le procédé de pulvérisation de plasma à basse température, il n'y a pas de température élevée pendant le processus de revêtement, les dommages thermiques sont
à peine.
3. Ce petit cratère à plasma utilise un système de contrôle PLC + écran tactile, facile à utiliser. Un plateau d'échantillons rotatif est
équipé.
4. Ce petit instrument de pulvérisation plasma utilise un système de contrôle d'écran PLC +Tounch, facile à apprendre et à utiliser.
5. Il est fourni avec une petite taille, adaptée aux processus de recherche en laboratoire.
Spécifications du cratère de pulvérisation de plasma
| Modèle du produit | TN-PLZ180-I-DC-Q. | |
| Étape d'échantillonnage | Taille | 100 mm |
| Vitesse de rotation | réglable de 1 à 20 tr/min | |
| Source de pulvérisation plasmatique | Quantité | 2 pouces*1 |
| Chambre à vide | Taille de la chambre | φ180mm x 210 mm |
| Fenêtre d'observation | Visibilité omnidirectionnelle | |
| Matériau de la chambre | Quartz haute pureté | |
| Méthode ouverte | Couvercle supérieur amovible | |
| Matériau des couvercles supérieur et inférieur | acier inoxydable 304 | |
| Orifice de pompage | KF16 | |
| Orifice d'admission | connecteur à embout de 1/4 pouces | |
| Configuration de l'alimentation | Quantité | Alimentation c.c. x1 |
| Puissance de sortie | Max. 150 W. | |
| Puissance de pulvérisation | 1 200 V. | |
| Courant de pulvérisation max | 50 mA | |
| Système de vide | Type de pompe à vide | Pompe à vide rotative à palettes à deux étages |
| Orifice de pompage | KF16 | |
| Interface d'échappement | KF16 | |
| Débit de pompage | 1,1 l/s (4 m3/h) | |
| Vide ultime | ≥ 0,1 Pa | |
| Mesure de vide | Jauge de dépression de résistance | |
| Autres | Alimentation | 220 V CA 50 Hz |
| Puissance totale | 1,5 kW/2 kW | |
| Dimensions | 500 mm x 320 mm x 470 mm | |
| Poids | 30kg | |
1. Nous avons des cibles de cratère de pulvérisation de plasma 1/2/3
2. Le substrat rotatif, le levage, le chauffage est en option
Alimentation 3. 150 W, 300 W, 500 W CC ou RF en option
Zhengzhou Tainuo film Materials Co., Ltd. Est une entreprise complète qui intègre la conception, la recherche et le développement, la production et la vente.
Les principaux produits de notre entreprise sont : le cratère de spin, le cratère d'évaporation thermique, le cratère de crapules de magnétron, le crapules de crapules de plasma, le crapules d'évaporation à faisceau E, Machine de revêtement laser à impulsions PLD, nettoyeur plasma, système CVD, système PECVD, machine de découpe de fil diamant, four de fusion/poêle, four de fusion à arc, etc
Nos produits sont largement utilisés dans le domaine de la recherche en sciences des matériaux. Nous avons une vaste coopération avec des universités, des laboratoires et des entreprises de nouveaux matériaux. Il a été exporté avec succès vers plus de 20 pays et régions, dont les États-Unis, le Royaume-Uni, l'Allemagne, la Russie, la Suisse, Le Canada, le Brésil, etc. Et ont établi des relations de coopération à long terme avec les concessionnaires locaux.
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Q. êtes-vous fabricant ou société de commerce?
R. nous sommes des fabricants professionnels d' instruments de laboratoire, nous avons une équipe et un atelier de R&D professionnels, ce qui peut
promettre la quulaité et le service après-vente.
Q. Comment est votre garantie ?
R. notre garantie est de 12 mois et assure un entretien à vie. Nous fournissons un service en ligne 24 heures sur 24.
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