• Double cible, cratère magnétron et coater composite PVD par évaporation thermique Avec alimentation CC et RF
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Double cible, cratère magnétron et coater composite PVD par évaporation thermique Avec alimentation CC et RF

Service après-vente: 12 mois
Garantie: 12 mois
Type: Ligne de Production de Revêtement
Revêtement: Revêtement sous Vide
Substrat: Acier
Certificat: CE

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Henan, Chine
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Aperçu

Info de Base.

N° de Modèle.
TN-MS325S-2TA1S
État
Nouveau
mode de refroidissement
refroidissement par eau
température de chauffage
Max 1800ºC
vitesse de rotation
réglable de 1 à 20 tr/min
taille de la chambre
φ325mm * 600mm
matériau de la chambre
acier inoxydable
Magnetron Sputtering Target Head
2 Magnetron Sputtering Heads
taille du plateau d′échantillonnage
Maximum 4" Substrate Can Be Placed
vitesse de rotation
1-20 Rpm (Adjustable)
précision du contrôle de la température
+/- 1.0 °c
régulateur de débit de gaz
2 Mass Flow Meters Installed Inside The Instrument
pompe à vide
a Set of Molecular Pump System, Using One-Button O
circuit de refroidissement
16 l/min
Paquet de Transport
Fumigated Wooden Box
Spécifications
1000mmx950mmx1300mm
Marque Déposée
TN
Origine
Chine
Code SH
8486209000
Capacité de Production
200/Month

Description de Produit

Double cible, cratère magnétron et coater composite PVD par évaporation thermique Avec alimentation CC et RF

Description du produit

Dispositif de     revêtement deux en un pour le revêtement de produits électroniques, de verre, d'échantillons en céramique, de métal et d'autres échantillons, particulièrement adapté à la préparation d'échantillons de laboratoire SEM (microscope électronique à balayage).
L'équipement est principalement composé d'une chambre à vide en acier inoxydable, d'une cible de pulvérisation au magnétron, d'une source d'évaporation, d'une table d'échantillonnage de chauffage rotatif, d'une pompe à vide, d'un manomètre de mesure de vide, d'un système d'admission d'air et d'un système de contrôle.

Fonctionnalités

  1. Fonctionnement de l'écran tactile, détection du compteur de contrôle de la température. L'interface de paramètres numériques et le mode de fonctionnement automatique offrent aux utilisateurs une excellente plate-forme de recherche et de développement ;
  2. La chambre à vide est en acier inoxydable 304 avec fenêtre d'observation et déflecteur. Belle forme, fabrication fine, excellentes performances de vide. La bride d'étanchéité principale est la bride d'étanchéité à vide élevée de la série CF. Chaque interface de la chambre à vide est scellée avec une bague d'étanchéité en caoutchouc, qui offre d'excellentes performances de vide et peut garantir efficacement la qualité du revêtement ;
  3. La cible est située au bas de la cavité et la cible est vers le haut. La table d'échantillonnage a la fonction de chauffage et de rotation, ce qui peut rendre l'effet de revêtement plus uniforme;
  4. Le système d'acquisition de vide adopte un groupe de pompe à vide à deux étages. La  pompe d'appui est une pompe mécanique à vitesse de pompage élevée, qui peut réduire efficacement le temps de passage de la pression atmosphérique à la dépression basse. La pompe principale est une pompe moléculaire à turbine, qui a une vitesse de pompage élevée et une vitesse d'acquisition du vide plus rapide. Le système d'acquisition du vide global est propre et rapide.
Paramètres du produit

 

Modèle TN-MS500S-2TA1S
Exemple de table Taille Ø 150 mm Chauffage ≤500 ºC
  Vitesse de rotation 1-20r/min Commande de température ±1 ºC
Tête de bec de pulvérisation magnétron Quantité 2 pouces ×2 Mode de refroidissement Refroidi par eau
Évaporation thermique source de l'évaporateur Panier en fil de tungstène Temp. Max 1800ºC
Thermocouple Type S.      
Chambre à vide Taille Ø 300 mm × 300 mm H Fenêtre de surveillance Ø 100 mm
Matériau 304 SUS Mode ouvert Porte avant
 
Système de vide Pompe mécanique Pompe à palettes rotative Interface d'extraction KF16
Pompage 1,1L/s.    
Pompe moléculaire Pompe moléculaire turbo Interface d'extraction CF150
Pompage 600 L/s Interface d'échappement KF40
Jauge de vide Jauge de résistance + jauge d'ionisation    
Degré de vide ultime 1,3x10-4Pa Alimentation CA ; 220 V 50 / 60 Hz
Alimentation du dispositif de coupe Alimentation CC 1 jeu Puissance de sortie ≤1000 W.
Tension de sortie ≤600 W. Temps de réponse <5 ms
Alimentation RF 1 jeu Puissance de sortie ≤1000 W.
Stabilité de puissance ≤5 W.    
Fréquence RF 13,56 MHz Stabilité RF
 
±0.005 %
Jauge d'épaisseur de film Résolution ±0,03 Hz Précision ±0.5 %
Limite supérieure de la plage
 
50000 Vitesse 100 à 1000 ms.
Système refroidi par eau Volume du réservoir 9L Débit 10 l/min
Système de gaz Type de débitmètre MFC(débitmètre massique) Portée 200 cm
Type de gaz AR    

Autre
Alimentation d'entrée 220 V CA, 50 Hz Taille 1 400 x 750 x 1 300 mm
Puissance totale 4 kw (hôte+pompe à vide) Poids 295kg

Un nouveau tableau d'échantillons est disponible
Exemple Taille Pour diamètre d'échantillon max. 150 mm Hauteur 70 mm réglable
  Vitesse de rotation 1 à 20 tr/min Chauffage 0 À 500 ºC
 
Photos détaillées

Dual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power Supply

 
 
 

 


 

Profil de l'entreprise

 

Dual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power SupplyDual Target Magnetron Sputter and Thermal Evaporation Composite PVD Coater with DC and RF Power Supply


 

FAQ

Q. êtes-vous un fabricant ou une société de commerce?

R. nous sommes des fabricants d'instruments de laboratoire professionnels, disposant de notre propre équipe de conception et de notre usine avec une expérience technique mature, et nous pouvons garantir la qualité des produits et le prix optimal.

Q. Comment est le système de service après-vente de votre entreprise ?

R.  la période de garantie du produit est de 12 mois, nous pouvons assurer la maintenance à vie. Nous disposons de services professionnels de pré-vente et d'après-vente qui peuvent vous répondre dans les 24 heures pour résoudre les problèmes techniques.

Q. combien de temps dure votre livraison ? Si je souhaite personnaliser l'instrument, combien de temps cela prend-il ?

A.1. Si les marchandises sont en stock, il est de 5-10 jours. 2. Nous pouvons fournir des services personnalisés pour nos clients. Cela prend généralement 30-60 jours selon les spécifications de l'instrument personnalisé.

Q. l'alimentation et la fiche de notre pays sont différentes. Comment la résoudre ?

R. nous pouvons fournir un transformateur et une prise selon vos besoins locaux, selon la prise électrique des différents pays.

Q. Comment payer?

A.T / T, L / C, D / P, etc., il est recommandé d'utiliser le produit fait dans la garantie commerciale de la Chine.

Q. Comment est le paquet de marchandises? Méthodes de livraison ?

A.1. Panneau de fumigation standard pour exportation emballage en carton en bois 2. Express, air, mer expédition selon les exigences du client, trouver la manière la plus appropriée.

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Fabricant/Usine
Produits Principaux
Evaporation Coater; Film Coater
Nombre d'Employés
13