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à propos de Al2O3 cible de pulvérisation
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Al2O3 cible de pulvérisation30+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Cible de pulvérisation pour revêtement de film mince

99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Cible de pulvérisation pour revêtement de film mince

50,00-300,00 $US
1 pieces(MOQ)
Matériau de cible de pulvérisation en oxyde d'aluminium pur de haute pureté 99.99% Al2O3

Matériau de cible de pulvérisation en oxyde d'aluminium pur de haute pureté 99.99% Al2O3

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Al2O3 Cible en céramique alumine oxyde d'aluminium cible de pulvérisation

99.99% Al2O3 Cible en céramique alumine oxyde d'aluminium cible de pulvérisation

28,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
Matériau PVD Céramique Al2O3 Cible de pulvérisation

Matériau PVD Céramique Al2O3 Cible de pulvérisation

50,00-200,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Al2O3-Zro2 Cible en céramique Zta alumine durcie par zirconium pour pulvérisation

Al2O3-Zro2 Cible en céramique Zta alumine durcie par zirconium pour pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.95% Cible de pulvérisation de molybdène pur pour revêtement

99.95% Cible de pulvérisation de molybdène pur pour revêtement

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Aluminium Target al de haute pureté, Alumina Target Material, PVD (Physical Vapor Deposition) Coating Magnetron Scrating Aluminum Target et Welding

Aluminium Target al de haute pureté, Alumina Target Material, PVD (Physical Vapor Deposition) Coating Magnetron Scrating Aluminum Target et Welding

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Al2O3 Cible en oxyde d'aluminium céramique pour circuits intégrés

Al2O3 Cible en oxyde d'aluminium céramique pour circuits intégrés

135,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Cible Azo (ZnO : Al2O3) Cibles en céramique plates

4n Cible Azo (ZnO : Al2O3) Cibles en céramique plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles azoïques adaptées pour les photovoltaïques, les affichages et les panneaux tactiles

Cibles azoïques adaptées pour les photovoltaïques, les affichages et les panneaux tactiles

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Optimisation de la composition de 4n Azo pour un sputtering rotatif haute performance

Optimisation de la composition de 4n Azo pour un sputtering rotatif haute performance

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Coque de laboratoire 2 pouce DC RF puissance double cible magnétron pulvérisation pour films minces conducteurs et non conducteurs

Coque de laboratoire 2 pouce DC RF puissance double cible magnétron pulvérisation pour films minces conducteurs et non conducteurs

26 000,00-28 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation plasma chrome à haute précision à double cible pour Al2O3 Sio2 titane

Machine de revêtement par pulvérisation plasma chrome à haute précision à double cible pour Al2O3 Sio2 titane

11 000,00-12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3 Têtes Compactes de Bureau 2" Dépôt par Sputtering Magnetron

3 Têtes Compactes de Bureau 2" Dépôt par Sputtering Magnetron

28 000,00-28 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Yochane Vacuum Technology Limited

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Cible de couche de la pulvérisation Al2O3

Cible de couche de la pulvérisation Al2O3

30,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible azoïque de couche de pulvérisation

Cible azoïque de couche de pulvérisation

30,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Able Target Limited

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Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd

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Pulvérisation de haute pureté cible ---- cible azoïques

Pulvérisation de haute pureté cible ---- cible azoïques

50,00 $US
1 Pièce(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd.

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Haute densité et haute de l'homogénéité Al2O3--pulvérisation Target-Alumina cible cible (Mat-CN)

Haute densité et haute de l'homogénéité Al2O3--pulvérisation Target-Alumina cible cible (Mat-CN)

Négociable
1 Pièce(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

60,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Laboratoire DC/RF à double tête 2" Sputtering plasma à magnétron Coater-Cy-600-2HD

Laboratoire DC/RF à double tête 2" Sputtering plasma à magnétron Coater-Cy-600-2HD

35 000,00-38 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Trois cibles de coater à magnétron par pulvérisation pour le revêtement de substrats et de plaquettes

Trois cibles de coater à magnétron par pulvérisation pour le revêtement de substrats et de plaquettes

30 000,00-35 960,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par plasma à haute vacuum avec double tête DC/RF et moniteur d'épaisseur

Système de pulvérisation par plasma à haute vacuum avec double tête DC/RF et moniteur d'épaisseur

27 500,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Revêtement par pulvérisation plasma à haute vacuum à double tête DC/RF - 2" - Cy-600-2HD

Revêtement par pulvérisation plasma à haute vacuum à double tête DC/RF - 2" - Cy-600-2HD

31 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Système de machine de revêtement sous vide en PVD en titane doré pour matériel en verre céramique Hcvac

Système de machine de revêtement sous vide en PVD en titane doré pour matériel en verre céramique Hcvac

60 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de dépôt physique en phase vapeur sous vide Hcvac, machine de revêtement en film mince

Machine de dépôt physique en phase vapeur sous vide Hcvac, machine de revêtement en film mince

60 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Équipement de revêtement sous vide par pulvérisation magnétron PVD Hcvac

Équipement de revêtement sous vide par pulvérisation magnétron PVD Hcvac

80 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement sous vide Hcvac PVD pour acier inoxydable, métal, céramique, mosaïque

Machine de revêtement sous vide Hcvac PVD pour acier inoxydable, métal, céramique, mosaïque

60 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Pièces en céramique de nitrure de bore personnalisées avec une haute pureté

Pièces en céramique de nitrure de bore personnalisées avec une haute pureté

5,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Manchon en céramique de nitrure de bore de haute pureté

Manchon en céramique de nitrure de bore de haute pureté

5,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Rondelle en céramique de nitrure de bore isolant électrique

Rondelle en céramique de nitrure de bore isolant électrique

5,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Buse en nitrure de bore haute précision pour pièces d'assemblage de ruban en alliage amorphe céramique Bn

Buse en nitrure de bore haute précision pour pièces d'assemblage de ruban en alliage amorphe céramique Bn

5,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

TIANJIN YINGHUA NEW MATERIAL TECH CO., LTD.

11 ans·5.0
·Société Commerciale
Envoyer demande
Tubes en céramique de nitrure de bore sur mesure haute performance pour l'industrie

Tubes en céramique de nitrure de bore sur mesure haute performance pour l'industrie

0,10-100,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Tube céramique en nitrure de bore sur mesure de haute qualité pour l'industrie

Tube céramique en nitrure de bore sur mesure de haute qualité pour l'industrie

0,10-100,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Plaque en céramique de nitrure de bore de haute qualité pour applications industrielles

Plaque en céramique de nitrure de bore de haute qualité pour applications industrielles

0,10-100,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Plaques de dissipateur thermique en nitrure de bore avancé pour un refroidissement supérieur

Plaques de dissipateur thermique en nitrure de bore avancé pour un refroidissement supérieur

0,20 $US
1 000 Pièces(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Machine de revêtement TMAXCN Marque VTC-3HD-VP 3 Heads RF/DC Plasma Sputtering Coater pour poudres avec 1 Système de purification de gaz PPM

Machine de revêtement TMAXCN Marque VTC-3HD-VP 3 Heads RF/DC Plasma Sputtering Coater pour poudres avec 1 Système de purification de gaz PPM

13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de Déposition par Sputtering PVD Métallique Multi Mode en Gant 4-Target pour la R&D

Système de Déposition par Sputtering PVD Métallique Multi Mode en Gant 4-Target pour la R&D

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-600-2HD-GB-LD Coater à plasma à double tête 2 Magnetron Sputtering Source DC RF Machine de revêtement dans une boîte à gants

Marque TMAXCN - VTC-600-2HD-GB-LD Coater à plasma à double tête 2 Magnetron Sputtering Source DC RF Machine de revêtement dans une boîte à gants

16 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Hebei Guikun Titanium Industry Co., Ltd

7 ans
·Société Commerciale
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Alumine de haute pureté 4n 5n Oxyde d'aluminium Al2O3

Alumine de haute pureté 4n 5n Oxyde d'aluminium Al2O3

22,00-45,00 $US
1 Kg(MOQ)
4n Haute Pureté 99.99% Alumine

4n Haute Pureté 99.99% Alumine

25,00-45,00 $US
1 Kg(MOQ)
5n 99.999% Poudre d'alumine de haute pureté pour céramique

5n 99.999% Poudre d'alumine de haute pureté pour céramique

25,00-45,00 $US
1 Kg(MOQ)
Poudre d'oxyde de zirconium haute pureté

Poudre d'oxyde de zirconium haute pureté

25,00-45,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd.

14 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Prix d'usine plaque en céramique en carbure de bore à angle coupé simple courbé hexagonal carré

Prix d'usine plaque en céramique en carbure de bore à angle coupé simple courbé hexagonal carré

1,00-10,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Substrat céramique en nitrure d'aluminium métallisé DPC avec revêtement Au/Cu

Substrat céramique en nitrure d'aluminium métallisé DPC avec revêtement Au/Cu

15,00-20,00 $US
1 pieces(MOQ)
1/4

Wuxi Taixie Metal Material Co., Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Oxyde de gallium Gallium Particule de gallium Lingot de gallium

Oxyde de gallium Gallium Particule de gallium Lingot de gallium

500,00 $US
100 Kg(MOQ)
1/4

Zhejiang Shengbo Intelligent Equipment Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Machine de revêtement PVD Ar avancée Simvaco pour couverture de téléphone en verre ultra dur

Machine de revêtement PVD Ar avancée Simvaco pour couverture de téléphone en verre ultra dur

1 950 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

Envoyer demande
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Wuxi Kingful Corporation., Ltd

9 ans
Envoyer demande
4/6/8/12 Plaque de silicium de pouce pour puces Mosfet

4/6/8/12 Plaque de silicium de pouce pour puces Mosfet

650,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lianyungang Highborn Technology Co., Ltd.

18 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Pièce en céramique semi-conductrice en nitrure de bore composite Sic personnalisée Zro2

Pièce en céramique semi-conductrice en nitrure de bore composite Sic personnalisée Zro2

85,00-125,00 $US
5 Pièces(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Machine de revêtement par évaporation cathodique PVD pour forets, pièces en acier

Machine de revêtement par évaporation cathodique PVD pour forets, pièces en acier

50 000,00-100 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Opticrystal Materials Co., Ltd.

12 ans
·Société Commerciale
Envoyer demande
Cristal de scintillation Cdwo4 avec une forte résistance aux dommages causés par les radiations

Cristal de scintillation Cdwo4 avec une forte résistance aux dommages causés par les radiations

40,00-50,00 $US
1 pieces(MOQ)
1/4

Wisdom Import & Export (Shanghai) Co., Ltd.

Envoyer demande
TiO2 Poudre céramique pour pulvérisation thermique

TiO2 Poudre céramique pour pulvérisation thermique

Négociable
5 Kg(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Matériau cible en oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible en oxyde de pulvérisation de magnétron, fixation de plaque arrière

Matériau cible en oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible en oxyde de pulvérisation de magnétron, fixation de plaque arrière

Négociable
1 Pièce(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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Matériaux de revêtement par évaporation de haute pureté ACETRON ZrO2+Al2O3 Granules

Matériaux de revêtement par évaporation de haute pureté ACETRON ZrO2+Al2O3 Granules

10,00-2 999,00 $US
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Cible ronde en AZO de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible ronde en AZO de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériaux d'évaporation haute pureté ACETRON ZrO2+Al2O3 granulés pour revêtement sous vide/PVD

Matériaux d'évaporation haute pureté ACETRON ZrO2+Al2O3 granulés pour revêtement sous vide/PVD

10,00-2 999,00 $US
1 Kg(MOQ)
Matériaux d'évaporation de haute pureté ACETRON MU1/SiO2+Al2O3 Granules

Matériaux d'évaporation de haute pureté ACETRON MU1/SiO2+Al2O3 Granules

100,00-150,00 $US
1 Kg(MOQ)
12
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