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à propos de cibles de pulvérisation en céramique d'oxyde
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cibles de pulvérisation en céramique d'oxyde40+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
In2O3 Cible en oxyde d'indium céramique pour le sputtering pour écran LCD/panneau tactile

In2O3 Cible en oxyde d'indium céramique pour le sputtering pour écran LCD/panneau tactile

650,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

500,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation TESEO Telluride oxyde de sélénium céramique cible pour semi-conducteur

Cible de pulvérisation TESEO Telluride oxyde de sélénium céramique cible pour semi-conducteur

500,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Matériaux de Revêtement 99.99% Cible de Sputtering en Silicium Oxyde Sio Céramique pour Recherche en Laboratoire

Matériaux de Revêtement 99.99% Cible de Sputtering en Silicium Oxyde Sio Céramique pour Recherche en Laboratoire

100,00-120,00 $US
1 pieces(MOQ)
Liv2o5 Cible de pulvérisation en céramique d'oxyde de lithium et de vanadium

Liv2o5 Cible de pulvérisation en céramique d'oxyde de lithium et de vanadium

200,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles en céramique 99.99% Ta2o5 Cible de pulvérisation cibles d'oxyde de tantale pour revêtement PVD

Cibles en céramique 99.99% Ta2o5 Cible de pulvérisation cibles d'oxyde de tantale pour revêtement PVD

20,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible en céramique Nio oxyde de nickel cible de pulvérisation

Cible en céramique Nio oxyde de nickel cible de pulvérisation

150,00-205,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Envoyer demande
3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

3n, 4n, 5n Personnalisé Al2O3 Cible Céramique Cibles de Pulvérisation d'Oxyde d'Aluminium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99 % Haute Pureté Gd2o3 Cible Céramique Oxyde de Gadolinium Cible de Sputtering

99.99 % Haute Pureté Gd2o3 Cible Céramique Oxyde de Gadolinium Cible de Sputtering

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium 4n-5n pour catalyseurs

Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium 4n-5n pour catalyseurs

50,00-70,00 $US
1 Kg(MOQ)
Poudre d'oxyde de yttrium de haute pureté Y2o3 pour applications céramiques

Poudre d'oxyde de yttrium de haute pureté Y2o3 pour applications céramiques

50,00-70,00 $US
1 Kg(MOQ)
Poudre de terres rares de haute pureté 99.995% Y2o3 granule pour cible de pulvérisation céramique

Poudre de terres rares de haute pureté 99.995% Y2o3 granule pour cible de pulvérisation céramique

50,00-65,00 $US
25 Kg(MOQ)
99.999% Oxyde de Yttrium Terrestre Rare Y2o3 CAS 1314-36-9, Matériau de Produit en Zircone Premium

99.999% Oxyde de Yttrium Terrestre Rare Y2o3 CAS 1314-36-9, Matériau de Produit en Zircone Premium

50,00-65,00 $US
25 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de métallisation sous vide par pulvérisation magnétron PVD personnalisable pour films en alliage

Machine de métallisation sous vide par pulvérisation magnétron PVD personnalisable pour films en alliage

36 500,00-39 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur à pulvérisation par magnétron à trois cibles

Coateur à pulvérisation par magnétron à trois cibles

36 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Disque cible de pulvérisation en métal gadolinium de qualité supérieure 99.9% pureté

Disque cible de pulvérisation en métal gadolinium de qualité supérieure 99.9% pureté

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en métal de lanthane sur mesure et mince pour l'électronique de haute technologie

Cible en métal de lanthane sur mesure et mince pour l'électronique de haute technologie

150,00-350,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en yttrium premium pour des solutions avancées de revêtement métallique

Cible de pulvérisation en yttrium premium pour des solutions avancées de revêtement métallique

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de cérium personnalisée premium pour une excellence de revêtement

Cible de pulvérisation de cérium personnalisée premium pour une excellence de revêtement

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3 Dépôt par pulvérisation magnétron cible à trois pouces

3 Dépôt par pulvérisation magnétron cible à trois pouces

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

30 000,00-39 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Trois instruments de pulvérisation par magnétron à trois cibles pour films semi-conducteurs

Trois instruments de pulvérisation par magnétron à trois cibles pour films semi-conducteurs

37 300,00-126 870,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Cible métallique ITO de haute pureté 4n oxyde d'indium et oxyde d'étain In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Rotary cible Nbox personnaliser oxyde de niobium cibles de pulvérisation de Nb2O5 CIBLES NB2OX

Rotary cible Nbox personnaliser oxyde de niobium cibles de pulvérisation de Nb2O5 CIBLES NB2OX

Négociable
2 Pièces(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
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Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

Igh Pureté 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Oxyde de Ruthénium Targ

2 000,00-4 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n-6n Poudre de bismuth, oxyde de bismuth, perles de bismuth aiguille

4n-6n Poudre de bismuth, oxyde de bismuth, perles de bismuth aiguille

40,00-1 000,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Poudre de bismuth, oxyde de bismuth, perles de bismuth aiguille

99.99% Poudre de bismuth, oxyde de bismuth, perles de bismuth aiguille

20,00-100,00 $US
1 g(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Envoyer demande
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Changsha Advanced Engineering Materials Limited

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Cibles de pulvérisation d'oxyde de niobium (Nb2O5)

Cibles de pulvérisation d'oxyde de niobium (Nb2O5)

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible céramique

Cible céramique

45,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Envoyer demande
L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ans·5.0
·Société Commerciale
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Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $US
10 Tonnes(MOQ)
1/4

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

Envoyer demande
Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

Haute pureté et la qualité de l'OTI pulvérisation disque cible pour la machine et le revêtement sous vide

10,00-5 000,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

Cible de l'OTI de haute qualité pour la machine de pulvérisation et de revêtement sous vide (90/10)

10,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Haute qualité de Nb2Ox cible pour Machine de pulvérisation et de revêtement sous vide

Haute qualité de Nb2Ox cible pour Machine de pulvérisation et de revêtement sous vide

10,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Tiox cibles de pulvérisation

Tiox cibles de pulvérisation

10,00-5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Envoyer demande
4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

4n Nbo2 Cibles en oxyde de niobium rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

4n TiO2 Cibles en oxyde de titane Cibles rotatives Cibles plates

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n TiO2 Cibles de pulvérisation en oxyde de titane cible

4n TiO2 Cibles de pulvérisation en oxyde de titane cible

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation rotative à 99.99 % d'oxyde de titane pour revêtement sous vide

Cibles de pulvérisation rotative à 99.99 % d'oxyde de titane pour revêtement sous vide

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

Envoyer demande
ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible en ITO de haute pureté pour le revêtement PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
CIBLE ROTATABLE TiO DE HAUTE PURETÉ ACETRON 4N 99.99% POUR REVÊTEMENT PAR VIDE/PVD

CIBLE ROTATABLE TiO DE HAUTE PURETÉ ACETRON 4N 99.99% POUR REVÊTEMENT PAR VIDE/PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Oxyde d'indium et d'étain / OIE pour revêtement conducteur d'affichage de panneau

ACETRON 4N 99.99% Oxyde d'indium et d'étain / OIE pour revêtement conducteur d'affichage de panneau

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
CIBLE DE SPUTTERING EN OXYDE D'INDIUM ET D'ÉTAIN DE HAUTE PURETÉ ACETRON 4N 99.99% POUR REVÊTEMENT PAR VACCUM/PVD

CIBLE DE SPUTTERING EN OXYDE D'INDIUM ET D'ÉTAIN DE HAUTE PURETÉ ACETRON 4N 99.99% POUR REVÊTEMENT PAR VACCUM/PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)

HENAN RUNJING INSTRUMENT EQUIPMENT CO.,LTD

Envoyer demande
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron PVD pour bijoux en métal, équipement de revêtement sous vide, usine avec trois têtes cibles, coater à pulvérisation magnétron RF

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron PVD pour bijoux en métal, équipement de revêtement sous vide, usine avec trois têtes cibles, coater à pulvérisation magnétron RF

28 000,00-45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide élevé pour films conducteurs et optiques

Équipement de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide élevé pour films conducteurs et optiques

55 000,00-65 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de revêtement par pulvérisation magnétron à triple cible (plateforme d'échantillon montée sur le dessus) pour des expériences de revêtement en laboratoire

Système de revêtement par pulvérisation magnétron à triple cible (plateforme d'échantillon montée sur le dessus) pour des expériences de revêtement en laboratoire

55 000,00-65 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

Envoyer demande
Cible rotative U-Spring Tiox / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative U-Spring Tiox / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
Cible rotative U-Spring Nb2ox / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative U-Spring Nb2ox / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
1/2

Guangdong Rongsin New Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation de haute pureté et pellet d'évaporation pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation de haute pureté et pellet d'évaporation pour revêtement PVD

1,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de magnétro Sial Tiox Nbox/Mo/Al/Si/SIP/Sib/Sicr Plaque Feuille Tube Cible de pulvérisation magnétique Oxydes Nitrures Carbures

Cible de magnétro Sial Tiox Nbox/Mo/Al/Si/SIP/Sib/Sicr Plaque Feuille Tube Cible de pulvérisation magnétique Oxydes Nitrures Carbures

1,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shaanxi Sgj International Co., Ltd.

Envoyer demande
Sgj Métal Avancé Industriel 99.95% Tantalum-Ta Tige/ Barre/ Tube/ Manchon/ Douille/ Tuyau pour Brasage Sous Vide à 99.7% Assemblage en Céramique Alumine

Sgj Métal Avancé Industriel 99.95% Tantalum-Ta Tige/ Barre/ Tube/ Manchon/ Douille/ Tuyau pour Brasage Sous Vide à 99.7% Assemblage en Céramique Alumine

1,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron RF pour métaux et non-métaux : isolants, semi-conducteurs, dépôt de films minces à base de carbone

Système de pulvérisation par magnétron RF pour métaux et non-métaux : isolants, semi-conducteurs, dépôt de films minces à base de carbone

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement à pulvérisation par cible double sous haute vide pour boîte à gants

Machine de revêtement à pulvérisation par cible double sous haute vide pour boîte à gants

40 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-600-3HD-GB 3 Têtes de pulvérisation et alimentations RF/DC Machine de revêtement par pulvérisation plasma dans une boîte à gants

Marque TMAXCN - VTC-600-3HD-GB 3 Têtes de pulvérisation et alimentations RF/DC Machine de revêtement par pulvérisation plasma dans une boîte à gants

16 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Système de machine de pulvérisation en ligne Hcvac pour verre recouvert d'oxyde d'indium et d'étain

Système de machine de pulvérisation en ligne Hcvac pour verre recouvert d'oxyde d'indium et d'étain

150 000,00-500 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Ligne de production de revêtement en oxyde d'indium-étain (ITO) par dépôt physique en phase vapeur sous vide

Ligne de production de revêtement en oxyde d'indium-étain (ITO) par dépôt physique en phase vapeur sous vide

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron d'oxyde d'indium et d'étain

Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron d'oxyde d'indium et d'étain

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Système de pulvérisation sous vide Hcvac PVD Système de machine de revêtement par pulvérisation Système de pulvérisation à magnétron sous vide

Système de pulvérisation sous vide Hcvac PVD Système de machine de revêtement par pulvérisation Système de pulvérisation à magnétron sous vide

80 000,00-300 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Gansu Jinshi Chemical Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Sulfate de potassium de chrome pour la préparation de colorants céramiques

Sulfate de potassium de chrome pour la préparation de colorants céramiques

1 500,00-2 000,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Sulfate de potassium de chrome pour créer des pigments céramiques durables

Sulfate de potassium de chrome pour créer des pigments céramiques durables

1 500,00-2 000,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Sulfate de potassium et de chrome de qualité pour glaçure céramique

Sulfate de potassium et de chrome de qualité pour glaçure céramique

1 500,00-2 000,00 $US
1 Tonne(MOQ)
Sulfate de potassium au chrome de qualité assurée pour les processus de finition des métaux

Sulfate de potassium au chrome de qualité assurée pour les processus de finition des métaux

1 500,00-2 000,00 $US
1 Tonne(MOQ)
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