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à propos de cibles de pulvérisation d'oxydes
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cibles de pulvérisation d'oxydes70+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

SiO2 Cible céramique de pulvérisation oxyde de silicium cible céramique de pulvérisation pour revêtement de film PVD

25,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
In2O3 Cible en oxyde d'indium céramique pour le sputtering pour écran LCD/panneau tactile

In2O3 Cible en oxyde d'indium céramique pour le sputtering pour écran LCD/panneau tactile

650,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

500,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Cibles d'oxyde d'indium et d'étain, cible ITO pour le revêtement PVD

99.99% Cibles d'oxyde d'indium et d'étain, cible ITO pour le revêtement PVD

20,00-30,00 $US
10 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde de chrome de taille personnalisée pour le dépôt de films minces

Cible de pulvérisation d'oxyde de chrome de taille personnalisée pour le dépôt de films minces

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible In2o3 d'oxyde d'indium pur pour la pulvérisation magnétron

99.99% Cible In2o3 d'oxyde d'indium pur pour la pulvérisation magnétron

200,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.95% Fabricant de Cible d'Oxyde de Niobium Pur Nb2o5 Prix de Cible de Sputtering

99.95% Fabricant de Cible d'Oxyde de Niobium Pur Nb2o5 Prix de Cible de Sputtering

600,00-1 500,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

Al2O3-MGO Cibles en céramique oxyde d'aluminium - oxyde de magnésium cibles de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation en titane-aluminium avancées pour des applications de précision

Cibles de pulvérisation en titane-aluminium avancées pour des applications de précision

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible de Sputtering d'Oxyde de Magnésium MGO2 Cible

Cible de Sputtering d'Oxyde de Magnésium MGO2 Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de Sputtering d'Oxyde de Yttrium Y2o3 Cible

Cible de Sputtering d'Oxyde de Yttrium Y2o3 Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation magnétron personnalisé avec 3 cibles pour la préparation de métal

Coateur de pulvérisation magnétron personnalisé avec 3 cibles pour la préparation de métal

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à poudre pour un équipement de revêtement idéal

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

32 000,00-34 000,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

31 000,00-32 500,00 $US
1 set(MOQ)
Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Envoyer demande
Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

10,00 $US
5 Pièces(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

2 960,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ans·5.0
·Société Commerciale
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Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $US
10 Tonnes(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
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Chine Fabricant Tantalum plaque Tantalum feuille Tantalum Prix cible

Chine Fabricant Tantalum plaque Tantalum feuille Tantalum Prix cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation en métal wolfram W de haute pureté

99.99% Cible de pulvérisation en métal wolfram W de haute pureté

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de tungstène de haute pureté 99.999%, ronde, en escalier, cible irrégulière ou revêtement mince

Cible de pulvérisation de tungstène de haute pureté 99.999%, ronde, en escalier, cible irrégulière ou revêtement mince

Négociable
10 Pièces(MOQ)
Dia301.625mm Cible en tungstène massif, 99.999% Cible de métallisation en wolfram W

Dia301.625mm Cible en tungstène massif, 99.999% Cible de métallisation en wolfram W

2 800,00-3 000,00 $US
1 pieces(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

45,00 $US
1 kg(MOQ)
Bonne dureté feuille de tungstène/ plaque pour four à haute température

Bonne dureté feuille de tungstène/ plaque pour four à haute température

45,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de tungstène/feuille pour l'industrie du vide électrique

Plaque de tungstène/feuille pour l'industrie du vide électrique

50,00 $US
10 Kg(MOQ)
Plaque de tungstène (W) de haute pureté et densité à vendre

Plaque de tungstène (W) de haute pureté et densité à vendre

45,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Envoyer demande
Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation de Feo 4n d'oxyde ferreux pour revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible avec l'Indium tin oxide & pureté haute densité

Pulvérisation de l'OTI cible avec l'Indium tin oxide & pureté haute densité

Négociable
2 Pièces(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

Coateur conductif à magnétron par pulvérisation DC/RF de banc pour métaux, oxydes, céramiques et semi-conducteurs

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Plaques de feuilles cibles Gzo Gallium Zin à pulvérisation d'oxyde 99.95 % Cible de pulvérisation Gzo

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Iwo cible, frappé de cellule solaire Iwo cible, cible d'oxyde Indium-Tungsten

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Cible de l'ATO, IR Film de fenêtre ATO, l'antimoine tin oxide cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Able Target Limited

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Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de terre rare

Cible de pulvérisation de terre rare

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Production de revêtement à haute transparence avec machine de revêtement en Ar améliorée pour une transmission lumineuse accrue

Production de revêtement à haute transparence avec machine de revêtement en Ar améliorée pour une transmission lumineuse accrue

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Ligne de revêtement de production de masse automatisée avec seize stations de machine de revêtement Ar

Ligne de revêtement de production de masse automatisée avec seize stations de machine de revêtement Ar

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

60,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Target Specttering en aluminium

Target Specttering en aluminium

15,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible céramique

Cible céramique

45,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Feuille de tungstène de haute qualité Kefeng avec une épaisseur de 0.001inches (0.025mm) à 0.08 pouces (2 mm)

Feuille de tungstène de haute qualité Kefeng avec une épaisseur de 0.001inches (0.025mm) à 0.08 pouces (2 mm)

50,00-500,00 $US
10 Kg(MOQ)
Alliage de molybdène Tzm dans l'industrie commerciale de traitement thermique

Alliage de molybdène Tzm dans l'industrie commerciale de traitement thermique

100,00-500,00 $US
10 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

Envoyer demande
Cible de pulvérisation

Cible de pulvérisation

0,10-100,00 $US
1 000 Pièces(MOQ)
1/4
13
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