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à propos de cibles de pulvérisation d'oxydes
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cibles de pulvérisation d'oxydes80+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

In2O3+Cu céramique cible oxyde indium+Cuprum céramique cible de pulvérisation pour LCD/Touch Panneau

40,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

Cible de pulvérisation Teo à oxyde de Telluride céramique pour semi-conducteur

500,00 $US
1 Kg(MOQ)
LaRaO cible Lanthane Radium oxyde céramique cible pour optique Revêtement en couche mince

LaRaO cible Lanthane Radium oxyde céramique cible pour optique Revêtement en couche mince

140,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

Cible ITO Haute Density>99.8% Basse Densité : 60% Cible de Sputtering en Oxyde d'Indium et d'Étain pour Panneau Tactile LCD/LED

340,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation par magnétron d'oxyde d'indium

Cible de pulvérisation par magnétron d'oxyde d'indium

35,00-150,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation d'oxyde de nickel pur Nio cibles de pulvérisation pour revêtement PVD

99.99% Cible de pulvérisation d'oxyde de nickel pur Nio cibles de pulvérisation pour revêtement PVD

150,00-600,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en cuivre de haute pureté pour la fabrication de cellules solaires

Cible en cuivre de haute pureté pour la fabrication de cellules solaires

50,00-3 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.9% Cible d'oxyde de cobalt Coo cible céramique pour le revêtement PVD

99.9% Cible d'oxyde de cobalt Coo cible céramique pour le revêtement PVD

110,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

Cibles en céramique d'oxyde de niobium de haute pureté Nb2o5 pour le sputtering

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

Cuo-In2o3 Cibles en céramique oxyde de cuivre - oxyde d'indium cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

Cible en oxyde de zinc et d'étain en céramique Zto pour le revêtement de films minces

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

Disque de cible de pulvérisation en oxyde de baryum de yttrium cuivre premium pour l'électronique

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

Cible de pulvérisation en oxyde de yttrium de haute pureté pour des applications de revêtement

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

Cible de pulvérisation d'oxyde d'ytterbium de haute pureté pour des applications électroniques

190,00-199,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en métal gadolinium premium épaisse personnalisée à vendre

Cible en métal gadolinium premium épaisse personnalisée à vendre

55,00-85,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Cible de Sputtering d'Oxyde de Yttrium Y2o3 Cible

Cible de Sputtering d'Oxyde de Yttrium Y2o3 Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

Cible en oxyde d'indium et d'étain ITO pour pulvérisation sous vide PVD cible verte

4 600,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

Cible de Sputtering en Oxyde d'Aluminium Al2O3 Cible

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de Sputtering d'Oxyde de Magnésium MGO2 Cible

Cible de Sputtering d'Oxyde de Magnésium MGO2 Cible

6 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium 4n-5n pour catalyseurs

Cible de pulvérisation d'oxyde de yttrium premium 4n-5n pour catalyseurs

50,00-70,00 $US
1 Kg(MOQ)
Poudre d'oxyde de yttrium de haute pureté Y2o3 pour applications céramiques

Poudre d'oxyde de yttrium de haute pureté Y2o3 pour applications céramiques

50,00-70,00 $US
1 Kg(MOQ)
Poudre de terres rares de haute pureté 99.995% Y2o3 granule pour cible de pulvérisation céramique

Poudre de terres rares de haute pureté 99.995% Y2o3 granule pour cible de pulvérisation céramique

50,00-65,00 $US
25 Kg(MOQ)
99.999% Oxyde de Yttrium Terrestre Rare Y2o3 CAS 1314-36-9, Matériau de Produit en Zircone Premium

99.999% Oxyde de Yttrium Terrestre Rare Y2o3 CAS 1314-36-9, Matériau de Produit en Zircone Premium

50,00-65,00 $US
25 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

Dépôt par pulvérisation magnétron à double cible en courant continu pour films minces métalliques et oxydes

21 000,00-26 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation magnétron personnalisé avec 3 cibles pour la préparation de métal

Coateur de pulvérisation magnétron personnalisé avec 3 cibles pour la préparation de métal

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
3 Dépôt par pulvérisation magnétron cible à trois pouces

3 Dépôt par pulvérisation magnétron cible à trois pouces

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

Quatre coateurs à magnétron par pulvérisation cible avec chambre de chargement pour film mince en céramique

28 500,00-40 100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

99.99% Cible de Sputtering en Oxyde de Gallium Cible Plane Ga2o3 Cible

300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

Oxyde d'étain (SnO2) Matériau d'évaporation en pellet 1-10mm Pureté 99.99% Cible de pulvérisation

200,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

Plaque de cuivre Usine de Guangdong l'Indium tin oxide ITO Cibles de pulvérisation

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

Guangdong Factory Wholesale Pure 99.95% cuivre plaque pulvérisation de Target Fabrication

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

Pulvérisation en usine de cuivre cible rotatif pour conducteur semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Barre cible en métal de samarium granulaire CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Cible de pulvérisation en niobium de haute qualité avec le numéro CAS 7440-03-1

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

500W DC 300W RF Coater à Sputtering à Double Cible Magnetron pour le Sputtering de Métaux et d'Oxydes

31 000,00-32 500,00 $US
1 set(MOQ)
4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

4-Inch Coater à Sputtering DC Magnetron à Cible Unique pour Film d'Oxyde

32 000,00-34 000,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

Revêtement par pulvérisation magnétron à double cible RF en céramique, diélectrique, optique, oxyde, film dur, film PTFE

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

Machine de revêtement PVD sous vide par pulvérisation magnétron à double cible pour films semi-conducteurs

26 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Matériau cible ITO (oxyde d'étain indé), film conducteur transparent pour semi-conducteur d'oxyde d'étain indé, cible de pulvérisation de magnétron, spécifications personnalisées

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Matériau cible d'oxyde de zinc aluminium (AZO) de haute pureté, oxyde de zinc (ZnO) dopé d'oxyde d'aluminium (Al2O3), cible d'oxyde de pulvérisation de magnétron, liaison de plaque arrière.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Matériau cible de l'oxyde d'ytterbium Yb2o3, matériau expérimental de recherche scientifique, revêtement de pulvérisation, revêtement par évaporation, semi-conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

Résistance à la chaleur, solidité et ténacité cible ronde en titane

10,00 $US
5 Pièces(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

Blocs de métal en aluminium, cible de pulvérisation en aluminium pour la recherche en laboratoire

2 960,00 $US
1 Tonne(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

Ybco YBA2CU3O7 Yttrium oxyde de cuivre de baryum cible de pulvérisation

250,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ans·5.0
·Société Commerciale
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Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

Poudre de cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium (MGO) CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $US
10 Tonnes(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
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99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

99.99% Cible de pulvérisation en tungstène de haute pureté, 5n Cible en tungstène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Chine Fabricant Tantalum plaque Tantalum feuille Tantalum Prix cible

Chine Fabricant Tantalum plaque Tantalum feuille Tantalum Prix cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
4n Cible de Sputtering Wolfram, 99.99% Cible en Tungstène pour Revêtement par Sputtering

4n Cible de Sputtering Wolfram, 99.99% Cible en Tungstène pour Revêtement par Sputtering

Négociable
1 Pièce(MOQ)
11 Pouce 99.999% Cible de pulvérisation Wolfram, Dia 301.625 Cible de tungstène W pour revêtement par pulvérisation

11 Pouce 99.999% Cible de pulvérisation Wolfram, Dia 301.625 Cible de tungstène W pour revêtement par pulvérisation

2 800,00-3 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

Cible en molybdène pour le revêtement par pulvérisation sous vide

45,00 $US
1 kg(MOQ)
Plaque de tungstène/feuille pour l'industrie du vide électrique

Plaque de tungstène/feuille pour l'industrie du vide électrique

50,00 $US
10 Kg(MOQ)
Feuille de tungstène pur Plaque de tungstène pour four à vide

Feuille de tungstène pur Plaque de tungstène pour four à vide

45,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.95% Feuilles et plaques de tungstène poli pur

99.95% Feuilles et plaques de tungstène poli pur

45,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

L'oxyde de cible de pulvérisation de gallium Ga2O3 de la pureté de 99,99 % 4n

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Pulvérisation de l'OTI cible de l'Indium tin oxide 4n 99,99 % pour le revêtement optique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Négociable
1 Pièce(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Plaque cible de collage ITO oxyde d'étain indium cible de pulvérisation 99.99% 4n céramique.

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Cible 99.99 % ITO 97: 3 95: 5 90: 10 cible d'expectoration d'oxyde d'étain indium pour film conducteur

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'indium Oxyde en trioxyde d2o3 99,99 % de poudre, de haute pureté de l'indium, en poudre de trioxyde d2o3 Poudre d'oxyde d'Indium Prix

L'indium Oxyde en trioxyde d2o3 99,99 % de poudre, de haute pureté de l'indium, en poudre de trioxyde d2o3 Poudre d'oxyde d'Indium Prix

Négociable
50 Kg(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Envoyer demande
Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

Équipement de revêtement PVD par pulvérisation pour cibles doubles RF&DC&MF pour films multicouches conducteurs

45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

Système de pulvérisation par magnétron à haute vacuum polyvalent avec plusieurs cibles pour le dépôt de films multicouches composés

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

Matériaux de revêtement PVD de haute pureté de la marque TMAXCN, cible de pulvérisation en oxyde de tungstène Wo3

78,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

Coateur de pulvérisation par magnétron automatique de laboratoire pour films minces métalliques, oxydes et semi-conducteurs dans SEM, matériaux énergétiques

50 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Envoyer demande
L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

L'OTI pulvérisation planaire cible, film de verre de l'OTI, TP/TN/STN/TFT-LCD cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

L'OTI cible, cible rotatif de l'OTI, Tp Tn TFT-LCD STN cible de l'OTI

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Cible de l'OTI, LED / / OLED Tp cible de l'OTI, LED Semiconductor ITO Slug

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

L'oxyde d'Indium cible, cible de l'In2O3

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Envoyer demande
99,95 % ZnO pour produire du verre à haute efficacité énergétique low-e verre Verre pulvérisation Smart oxyde de zinc ZnO cible les plaques de feuille

99,95 % ZnO pour produire du verre à haute efficacité énergétique low-e verre Verre pulvérisation Smart oxyde de zinc ZnO cible les plaques de feuille

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

99.95% Zro pulvérisation d'oxyde de zirconium Zro plaques de feuille de cible Zro Cible de mastic aux oxydes de zirconium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

L'OTI personnalisable de 99,99 % de la taille de l'Indium tin oxide Rotation de pulvérisation en céramique de l'oti la cible

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Envoyer demande
ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

ITO Target / In2o3: Sno2 = 90: 10wt% / ITO Planar Sputtering Target

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Pulvérisation azo cible cible en oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Al2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Le Bi2O3 cible de pulvérisation en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Able Target Limited

Envoyer demande
Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Cibles de pulvérisation de Gdbacuox et cibles de pulvérisation de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Cible de pulvérisation, Al2O3/oxyde d'aluminium, Al2O3/ZnO/azo oxyde de zinc en aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation de terre rare

Cible de pulvérisation de terre rare

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
Envoyer demande
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Machine de revêtement par pulvérisation cathodique à grande échelle avec plusieurs cibles cathodiques pour le revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Machine de revêtement de film conducteur transparent à haut rendement avec cible ITO et revêtement à l'argon

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Système de dépôt de revêtement dur avec fonctionnalité de résistance aux rayures machine de revêtement Ar

Système de dépôt de revêtement dur avec fonctionnalité de résistance aux rayures machine de revêtement Ar

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Production de revêtement anti-reflet pour l'industrie de l'optique Machine de revêtement Ar

Production de revêtement anti-reflet pour l'industrie de l'optique Machine de revêtement Ar

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Envoyer demande
Target Specttering en aluminium

Target Specttering en aluminium

15,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible céramique

Cible céramique

45,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation

60,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

Envoyer demande
Feuille de tungstène de haute qualité Kefeng avec une épaisseur de 0.001inches (0.025mm) à 0.08 pouces (2 mm)

Feuille de tungstène de haute qualité Kefeng avec une épaisseur de 0.001inches (0.025mm) à 0.08 pouces (2 mm)

50,00-500,00 $US
10 Kg(MOQ)
Alliage de molybdène Tzm dans l'industrie commerciale de traitement thermique

Alliage de molybdène Tzm dans l'industrie commerciale de traitement thermique

100,00-500,00 $US
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