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à propos de cible de pulvérisation rotative
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cible de pulvérisation rotative50+ usines vérifiées

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cible de pulvérisation Cu/cible rotative cuivre pour conducteur/semi-conducteur à revêtement métallique

Cible de pulvérisation Cu/cible rotative cuivre pour conducteur/semi-conducteur à revêtement métallique

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Al Target aluminium pulvérisation cible/aluminium rotatif cible pour circuits intégrés/LCD

Al Target aluminium pulvérisation cible/aluminium rotatif cible pour circuits intégrés/LCD

1,00-10,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible TA Scraptering au tantale cible/cible rotative au tantale pour semi-conducteur

Cible TA Scraptering au tantale cible/cible rotative au tantale pour semi-conducteur

400,00-600,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane Ti / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation par revêtement sous vide

Cible de pulvérisation en titane Ti / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation par revêtement sous vide

20,00-100,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation en cuivre rotatif planaire

Cible de pulvérisation en cuivre rotatif planaire

30,00-999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Xinkang 3n5 99.95% Cible de pulvérisation rotative en chrome de matériau métallique pur

Xinkang 3n5 99.95% Cible de pulvérisation rotative en chrome de matériau métallique pur

55,00-120,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Vente Chaude Matériau Métallique 4n5 99.995% Cibles de Sputtering Rotatif en Titane Ti Magnetron

Vente Chaude Matériau Métallique 4n5 99.995% Cibles de Sputtering Rotatif en Titane Ti Magnetron

35,00-45,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible rotative en métal tantale de haute pureté 99.95% Ta cibles de pulvérisation magnétron en tantale

Cible rotative en métal tantale de haute pureté 99.95% Ta cibles de pulvérisation magnétron en tantale

35,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Nous fournissons divers types de cibles à anode rotative, sablage, cibles de pulvérisation à anode rotative noircies

Nous fournissons divers types de cibles à anode rotative, sablage, cibles de pulvérisation à anode rotative noircies

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Fournir une cible de pulvérisation en tungstène à anode rotative en rhenium noir

Fournir une cible de pulvérisation en tungstène à anode rotative en rhenium noir

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Cible de pulvérisation rotative en métal, cible d'anode rotative en molybdène rhénium tungstène

Cible de pulvérisation rotative en métal, cible d'anode rotative en molybdène rhénium tungstène

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
Applications à haute température cible de pulvérisation rotative en tungstène-rhénium pour anode à rayons X

Applications à haute température cible de pulvérisation rotative en tungstène-rhénium pour anode à rayons X

142,00-168,00 $US
30 Pièces(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Cible de pulvérisation en nickel Ni Matériau métallique Cible de pulvérisation rotative en nickel Ni

99.9% Cible de pulvérisation en nickel Ni Matériau métallique Cible de pulvérisation rotative en nickel Ni

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible de pulvérisation en cuivre, métal cuivre, cible rotative pour pulvérisation magnétron

Cible de pulvérisation en cuivre, métal cuivre, cible rotative pour pulvérisation magnétron

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

Cible en céramique d'alliage Tiox dioxyde de titane oxyde de titane cible de pulvérisation

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.99% Cibles de sputtering en céramique de carbure de vanadium

99.99% Cibles de sputtering en céramique de carbure de vanadium

17,00-55,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

Cible de pulvérisation en titane Ti Target / Cible rotative en titane pour semi-conducteurs / Pulvérisation de revêtement sous vide

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en titane de haute pureté, planétaire pour l'industrie des semi-conducteurs, circuits intégrés, verre de construction et automobile

Cible de pulvérisation en titane de haute pureté, planétaire pour l'industrie des semi-conducteurs, circuits intégrés, verre de construction et automobile

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Prix d'usine 99.95% Cible de pulvérisation en tantale pur métal Ta cibles planaires en tantale

Prix d'usine 99.95% Cible de pulvérisation en tantale pur métal Ta cibles planaires en tantale

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de fabrication en titane, cible de pulvérisation en titane, disque en titane pour décoration et revêtement

Cible de fabrication en titane, cible de pulvérisation en titane, disque en titane pour décoration et revêtement

1,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ans
·Société Commerciale
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Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible de Sputtering ITO Rotatif 4n In2o3 et Sno2

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Prix d'usine Vendre faible densité 4n cible ronde ITO petite

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Prix d'usine vendre cible ITO haute pureté pour Rpd 4n

Négociable
1 Piece(MOQ)
Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible Izo In2o3 et ZnO Trioxide d'Indium et Oxyde de Zinc

Prix d'usine Vendre Haute Qualité Cible Izo In2o3 et ZnO Trioxide d'Indium et Oxyde de Zinc

Négociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

7 900,00-8 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coqueur plasma triple cible en acier inoxydable en poudre avec 150W alimentation électrique haute tension DC pour instrument chirurgical

Coqueur plasma triple cible en acier inoxydable en poudre avec 150W alimentation électrique haute tension DC pour instrument chirurgical

12 000,00-13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec moniteur d'épaisseur de film

Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec moniteur d'épaisseur de film

18 000,00-19 200,00 $US
1 set(MOQ)
Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec alimentation en courant de polarisation

Revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique avec alimentation en courant de polarisation

10 000,00-12 000,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

8 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN VTC-16-SM Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à courant continu haute puissance avec plateau rotatif et refroidisseur d'eau

Marque TMAXCN VTC-16-SM Machine de revêtement par pulvérisation magnétron à courant continu haute puissance avec plateau rotatif et refroidisseur d'eau

6 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Petit pulvérisateur à carbone à courant continu pour auto-vacuum

Petit pulvérisateur à carbone à courant continu pour auto-vacuum

5 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN VTC-600-2HD-LD Machine de revêtement sous vide haute pression à double tête DC/RF 2 Coater à plasma par pulvérisation magnétro

Marque TMAXCN VTC-600-2HD-LD Machine de revêtement sous vide haute pression à double tête DC/RF 2 Coater à plasma par pulvérisation magnétro

15 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

5-200kw Source de pulvérisation typique pour les industries de revêtement en film mince cathode à magnétron rotatif cible de pulvérisation rotative

6 900,00-7 000,00 $US
2 sets(MOQ)
Cathode de pulvérisation rotatif sur mesure, cathode de magnetron à pulvérisation rotatif

Cathode de pulvérisation rotatif sur mesure, cathode de magnetron à pulvérisation rotatif

6 500,00-12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Source de pulvérisation rotative cylindrique à cathode à éclaboussures

Source de pulvérisation rotative cylindrique à cathode à éclaboussures

15 200,00-16 000,00 $US
2 sets(MOQ)
Cathode à aimant rotatif pour revêtement PVD par pulvérisation cathodique

Cathode à aimant rotatif pour revêtement PVD par pulvérisation cathodique

16 000,00-16 100,00 $US
2 sets(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

Appareil de revêtement par pulvérisation magnétron à cible unique en acier inoxydable de bureau

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

Cible de pulvérisation rotative simple par RF pour revêtement par magnétron pour la recherche sur les cellules solaires

30 000,00-39 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur à pulvérisation par magnétron à double cible

Coateur à pulvérisation par magnétron à double cible

37 300,00-126 870,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation à magnétron à trois cibles sous vide haute horizontal pour films minces en alliage

Coateur de pulvérisation à magnétron à trois cibles sous vide haute horizontal pour films minces en alliage

8 730,00-8 900,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation rotative 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Cible de pulvérisation rotative 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation par magnétron Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Cible de pulvérisation par magnétron Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

Équipement de pulvérisation plasma revêtement anti-adhérent résistant à l'usure en silice aluminium alumine zirconium

35 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ans
·Société Commerciale
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Cible de pulvérisation de molybdène Mo de haute pureté

Cible de pulvérisation de molybdène Mo de haute pureté

200,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Applications haute température cible d'anode de rayons X au tungstène-rhénium

Applications haute température cible d'anode de rayons X au tungstène-rhénium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Cible ITO pour LCD, PDP, OLED, cible composée d'étain, d'indium et d'oxygène

Négociable
1 Pièce(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

Cible de pulvérisation Titane Al Cu Chrome Ni Tube de magnétro PVD rotatif de revêtement

0,50-10,00 $US
10 Pièces(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

Plaque de revêtement PVD Cu Multi Arc pulvérisation en usine cuivre cible Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Matériau de revêtement de nickel de haute pureté pulvérisation magnétron cible rotatif

Matériau de revêtement de nickel de haute pureté pulvérisation magnétron cible rotatif

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
99.999 % titane Target Ti Target pour l'appareil de revêtement PVD utilisé pour l'optique, l'électronique, la décoration

99.999 % titane Target Ti Target pour l'appareil de revêtement PVD utilisé pour l'optique, l'électronique, la décoration

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)
Le titane personnalisés tubulaire de pulvérisation de tuyau rotatifs cible les composants électroniques en usine

Le titane personnalisés tubulaire de pulvérisation de tuyau rotatifs cible les composants électroniques en usine

10,00-15,00 $US
1 Kg(MOQ)

Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

50,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

Cible rotative poly-si/rotation de tubes en silicium mono/cible de pulvérisation pour magnétron Pulvérisation

50,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
6n tube en silicium polycristallin/tube en silicium monocristallin/cible de pulvérisation magnétron/anneau en silicium

6n tube en silicium polycristallin/tube en silicium monocristallin/cible de pulvérisation magnétron/anneau en silicium

10,00-999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
cible 6n Poly Silicon / cible Mono Silicon / cible Scraptering Silicon / silicone rond pour Revêtement PVD

cible 6n Poly Silicon / cible Mono Silicon / cible Scraptering Silicon / silicone rond pour Revêtement PVD

10,00-99,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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Zr Zirconium Retangular planaire de la plaque de cible de pulvérisation

Zr Zirconium Retangular planaire de la plaque de cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

L'OTI 97 : 3 93 : 7 90 : 10 95 : 5wt% 99,99% Retangular rotatif de haute pureté et la plaque cible de la pulvérisation de revêtement sous vide de verre

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Cible de pulvérisation en titane avancé pour des solutions de revêtement premium

Cible de pulvérisation en titane avancé pour des solutions de revêtement premium

115,00-130,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation de molybdène à plaque ronde Mo1 de haute pureté

Cible de pulvérisation de molybdène à plaque ronde Mo1 de haute pureté

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Plaque de molybdène cible de qualité supérieure

Plaque de molybdène cible de qualité supérieure

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

Mo1 Prix de la cible de molybdène pour la pulvérisation

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
Molybdène matériau cible meilleur prix Mo Tagret

Molybdène matériau cible meilleur prix Mo Tagret

40,00-88,00 $US
1 kg(MOQ)
1/2

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 ans
·Société Commerciale
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Flexion et pliage des cibles de pulvérisation de molybdène

Flexion et pliage des cibles de pulvérisation de molybdène

40,00-43,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles de pulvérisation en molybdène de haute qualité

Cibles de pulvérisation en molybdène de haute qualité

66,00-77,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles de pulvérisation en molybdène pour assemblage complexe

Cibles de pulvérisation en molybdène pour assemblage complexe

40,00-43,00 $US
1 Kg(MOQ)
Cibles de pulvérisation en molybdène de très haute pureté

Cibles de pulvérisation en molybdène de très haute pureté

20,00-86,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/1

UV Tech Material Co., Ltd.

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Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Cible de l'OTI planaire rotatif, pulvérisation magnétron cible, In2O3 : Sno2 cible, 90 : 10 ITO, 95 : 5, 97 : 3 de l'OTI OTI

Négociable
10 Kg(MOQ)
Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Le Rotary Tiox cible, principalement pour l'application Low-E le revêtement du verre, pulvérisation magnétron cible, cible d'oxyde de titane

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible Nbox rotatif 99,95 % cible de pulvérisation de haute qualité

Cible Nbox rotatif 99,95 % cible de pulvérisation de haute qualité

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Alliage Nb-Zr cible de pulvérisation, de haute pureté NB-1zr pour cible en alliage de revêtement PVD

Alliage Nb-Zr cible de pulvérisation, de haute pureté NB-1zr pour cible en alliage de revêtement PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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6n Cibles de pulvérisation rotative en cuivre de haute pureté

6n Cibles de pulvérisation rotative en cuivre de haute pureté

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

4n Cible Azo ZnO : Al2O3 Cibles de pulvérisation rotative

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Plaque de cible de pulvérisation en platine PT de haute pureté / Cible en métal de platine PT

99.99% Plaque de cible de pulvérisation en platine PT de haute pureté / Cible en métal de platine PT

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cibles de titane de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

99.99% Cibles de titane de haute pureté pour revêtement sous vide/PVD

200,00-10 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Cible rotative U-Spring Sial / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative U-Spring Sial / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
Cible rotative en chrome U-Spring / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative en chrome U-Spring / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
Cible rotative U-Spring Si / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative U-Spring Si / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
Cible rotative U-Spring Tiox / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

Cible rotative U-Spring Tiox / Cible de pulvérisation pour pulvérisation magnétron et revêtement sous vide

2 000,00 $US
1 Pcs(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Pulvérisation rotative en aluminium silicium cible (pulvérisation de haute qualité à la cible)

Pulvérisation rotative en aluminium silicium cible (pulvérisation de haute qualité à la cible)

200,00-300,00 $US
2 Pièces(MOQ)
Pulvérisation pulvérisation cible : Titane / Arc cible avec des matériaux différents

Pulvérisation pulvérisation cible : Titane / Arc cible avec des matériaux différents

50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
La pureté de 99,99 % cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

La pureté de 99,99 % cible de pulvérisation en aluminium de haute qualité, cible en aluminium

10,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de haute qualité fournisseur cible en Chine

Pulvérisation de haute qualité fournisseur cible en Chine

20,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 5N5 99.9995% Cible de pulvérisation rotative en aluminium de haute pureté pour revêtement PVD

ACETRON 5N5 99.9995% Cible de pulvérisation rotative en aluminium de haute pureté pour revêtement PVD

99,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

99,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
CIBLE ROTATIVE EN TITANE ACETRON 99.995% POUR REVÊTEMENT PAR PVD/VACUUM

CIBLE ROTATIVE EN TITANE ACETRON 99.995% POUR REVÊTEMENT PAR PVD/VACUUM

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Cible de pulvérisation rotative en argent de haute pureté pour revêtement PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible de pulvérisation rotative en argent de haute pureté pour revêtement PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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5n Cu 99.999% Cuprum Cu taille personnalisée cible rotatif Cible de pulvérisation de cuivre

5n Cu 99.999% Cuprum Cu taille personnalisée cible rotatif Cible de pulvérisation de cuivre

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation rotatif 4n 99.99 Aluminium Silicium SIP/Siboron Factory Direct si le silicium cible de pulvérisation

Cible de pulvérisation rotatif 4n 99.99 Aluminium Silicium SIP/Siboron Factory Direct si le silicium cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

99,9 % Tiox oxyde de titane Rotary pulvérisation Cible Cible revêtement sous vide PVD oxyde de titane Tiox cible de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Panneau d'extérieur rotatif à cible 99.99 % nbox à oxyde de niobium haute pureté Matériau de revêtement cible rotative de pulvérisation

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

L'Yttrium oxyde de zirconium Ysz(ZRO2/Y2O3 99,99 % cible de pulvérisation cible en céramique

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation en alliage de cible pour revêtement PVD Revêtement d'évaporation

Pulvérisation en alliage de cible pour revêtement PVD Revêtement d'évaporation

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Alliage de haute pureté de 99,99 % cible 4n'oxyde de nickel NIO pour revêtement optique Thin-Film PVD l'évaporation

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Cibles en cuivre d'une pureté ultra 99.9999% 7n5

Cibles en cuivre d'une pureté ultra 99.9999% 7n5

26,99-53,03 $US
1 000 kilograms(MOQ)
Usine chinoise de cible de pulvérisation en cuivre (Cu) de haute pureté 6n 99.9999%

Usine chinoise de cible de pulvérisation en cuivre (Cu) de haute pureté 6n 99.9999%

89,00-180,00 $US
1 000 kilograms(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

99.95% Cible de pulvérisation de molybdène Moly Tube

5,00-200,00 $US
1 Kilogram(MOQ)
Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

Produit personnalisé en tungstène, cible en tungstène pur pour pulvérisation

40,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Cible Cr avec haute qualité

Cible Cr avec haute qualité

0,10-100,00 $US
1 000 Pièces(MOQ)
Cible en molybdène pur pour revêtements, écrans TFT-LCD

Cible en molybdène pur pour revêtements, écrans TFT-LCD

1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Yochane Vacuum Technology Limited

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Teneur de Rotary / Ta Tube / Piput Sputtering Target

Teneur de Rotary / Ta Tube / Piput Sputtering Target

5,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible rotatoire de couche de pulvérisation du tube Chromium/Cr

Cible rotatoire de couche de pulvérisation du tube Chromium/Cr

20,00 $US
1 Pièce(MOQ)
12
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