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à propos de Cibles de pulvérisation rotatif
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Cibles de pulvérisation rotatif20+ usines vérifiées

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Tube en titane de haute pureté 4n5 Cible rotative en titane Cible de pulvérisation rotative en titane

Tube en titane de haute pureté 4n5 Cible rotative en titane Cible de pulvérisation rotative en titane

200,00-1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium cuivre de haute pureté 99.9% personnalisée Alcu30at%

Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium cuivre de haute pureté 99.9% personnalisée Alcu30at%

45,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation rotative en aluminium de haute pureté Xinkang 5n5 99.9995% pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation rotative en aluminium de haute pureté Xinkang 5n5 99.9995% pour revêtement PVD

55,00-135,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99.99% Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium néodyme pour écran LCD/panneau tactile

99.99% Cible de pulvérisation en alliage d'aluminium néodyme pour écran LCD/panneau tactile

45,00-100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Pulvérisation Tiox rotatif Sial Silver Tube cathodique cible la pureté de haute qualité pour les dépôts à film mince Nano PVD

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Alliage Zrsial cible pivotante

Alliage Zrsial cible pivotante

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Les compresseurs Zr Zirconium pulvérisation cylindrique rotatif cible cible pour le magnétron mince revêtement Fim

Les compresseurs Zr Zirconium pulvérisation cylindrique rotatif cible cible pour le magnétron mince revêtement Fim

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Cible de pulvérisation nbox Nb2O5 bec-de-bouillie cible rotatif haute pureté 99.95% Hip CIP cible Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr Azo ITO

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ans
·Fabricant/Usine
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Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

Coateur de pulvérisation à plasma à double cible de bureau pour échantillon SEM et chrome

7 900,00-8 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur de pulvérisation par plasma à vide à triple cible avec refroidissement à l'eau

Coateur de pulvérisation par plasma à vide à triple cible avec refroidissement à l'eau

9 500,00-11 500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur rotatif plasma à trois cibles compact avec pompe à vide pour le revêtement en or, argent et cuivre

Coateur rotatif plasma à trois cibles compact avec pompe à vide pour le revêtement en or, argent et cuivre

11 000,00-13 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de dépôt de film nano en bronze par pulvérisation plasma à cible unique 2 pouces

Système de dépôt de film nano en bronze par pulvérisation plasma à cible unique 2 pouces

4 000,00-4 500,00 $US
1 set(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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99,99 % Alsi rotatif de haute pureté en alliage aluminium Silicon cible cible de pulvérisation

99,99 % Alsi rotatif de haute pureté en alliage aluminium Silicon cible cible de pulvérisation

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Pivoter Tial cible en alliage, pulvérisation magnétron cible, de Titane Alliage en aluminium Tial cible de pulvérisation pour revêtement de décoration

Pivoter Tial cible en alliage, pulvérisation magnétron cible, de Titane Alliage en aluminium Tial cible de pulvérisation pour revêtement de décoration

Négociable
1 Pièce(MOQ)
Cible Nbox rotatif 99,95 % cible de pulvérisation de haute qualité

Cible Nbox rotatif 99,95 % cible de pulvérisation de haute qualité

Négociable
2 Pièces(MOQ)
Nb rotatif cible cible de pulvérisation de haute qualité, de revêtement à film mince de niobium cible de pulvérisation

Nb rotatif cible cible de pulvérisation de haute qualité, de revêtement à film mince de niobium cible de pulvérisation

Négociable
2 Pièces(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

Marque TMAXCN VTC-16-3HD-LD 3 Machine de pulvérisation par plasma rotatif pour revêtement, y compris 3 cibles

8 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Système de dépôt de film par pulvérisation à haute précision DC/RF avec cibles triples rotatives

Système de dépôt de film par pulvérisation à haute précision DC/RF avec cibles triples rotatives

40 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-600-2HD-GB-LD Coater à plasma à double tête 2 Magnetron Sputtering Source DC RF Machine de revêtement dans une boîte à gants

Marque TMAXCN - VTC-600-2HD-GB-LD Coater à plasma à double tête 2 Magnetron Sputtering Source DC RF Machine de revêtement dans une boîte à gants

16 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

Marque TMAXCN - VTC-3RF Option de pulvérisation par magnétron à courant continu 3 Têtes 1" Machine de pulvérisation par magnétron à plasma RF

12 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Baoji Quality Metals Co., Ltd.

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Pulvérisation de Ti Titane cible de la plaque de 99,999 % 4N5 cible en titane

Pulvérisation de Ti Titane cible de la plaque de 99,999 % 4N5 cible en titane

20,00-50,00 $US
1 Kg(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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Tube d'alumine 2n5-3n Al Target Alumina aluminium rotation cible Cible aluminium

Tube d'alumine 2n5-3n Al Target Alumina aluminium rotation cible Cible aluminium

Négociable
1 Pièce(MOQ)

Baoji City Hengxin Rare Metal Co, . Ltd.

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Cible de pulvérisation rotative et plane au niobium NB

Cible de pulvérisation rotative et plane au niobium NB

1 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

CIBLE DE SPUTTERING ITO ACETRON 4N 99.99% pour le revêtement de film conducteur

99,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 5N5 99.9995% Cible de pulvérisation rotative en aluminium de haute pureté pour revêtement PVD

ACETRON 5N5 99.9995% Cible de pulvérisation rotative en aluminium de haute pureté pour revêtement PVD

99,00-9 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
CIBLE ROTATABLE EN ZR DE HAUTE PURETÉ ACETRON 99.60% POUR REVÊTEMENT SOUS VIDE/PVD

CIBLE ROTATABLE EN ZR DE HAUTE PURETÉ ACETRON 99.60% POUR REVÊTEMENT SOUS VIDE/PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Cible rotative IGZO de haute pureté pour le revêtement sous vide/PVD

ACETRON 4N 99.99% Cible rotative IGZO de haute pureté pour le revêtement sous vide/PVD

99,00-99 999,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Coateur de pulvérisation plasma à haute vacuum à double tête DC/RF

Coateur de pulvérisation plasma à haute vacuum à double tête DC/RF

28 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Évaporateur à échantillons de grande taille à multi-modèles avec un plateau d'échantillons rotatif, chauffant et élévateur

Évaporateur à échantillons de grande taille à multi-modèles avec un plateau d'échantillons rotatif, chauffant et élévateur

35 000,00-45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Coateur d'évaporation thermique sous vide haute source triple pour batterie solaire

Coateur d'évaporation thermique sous vide haute source triple pour batterie solaire

31 000,00-34 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Trois évaporateurs source de haute vacuum

Trois évaporateurs source de haute vacuum

31 000,00-34 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Pulvérisation de haute qualité fournisseur cible en Chine

Pulvérisation de haute qualité fournisseur cible en Chine

20,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Pure Si (silicium) rotatif cible de pulvérisation

Pure Si (silicium) rotatif cible de pulvérisation

100,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Tio cible pivotante de haute qualité cible de pulvérisation

Tio cible pivotante de haute qualité cible de pulvérisation

190,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Le zinc 50 % d'étain 50 % Pulvérisation Znsn Cible Cible rotatif

Le zinc 50 % d'étain 50 % Pulvérisation Znsn Cible Cible rotatif

97,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Ligne de revêtement plan, simple ou double rotatif pour photovoltaïques en film mince CIGS

Ligne de revêtement plan, simple ou double rotatif pour photovoltaïques en film mince CIGS

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Système de pulvérisation en ligne pour le revêtement en ITO de verre de blindage contre les champs électromagnétiques/les interférences électromagnétiques/la compatibilité électromagnétique et les interférences radio

Système de pulvérisation en ligne pour le revêtement en ITO de verre de blindage contre les champs électromagnétiques/les interférences électromagnétiques/la compatibilité électromagnétique et les interférences radio

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Technologie de fabrication de cathodes hautement efficace pour le revêtement PVD en ligne sur verre

Technologie de fabrication de cathodes hautement efficace pour le revêtement PVD en ligne sur verre

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron d'oxyde d'indium et d'étain

Machine de revêtement en verre par pulvérisation magnétron d'oxyde d'indium et d'étain

1 500 000,00-5 000 000,00 $US
1 Jeu(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ans
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Bloc terminal de magnetron, petit magnetron, bloc terminal de pulvérisation par magnetron, cathode rotative

Bloc terminal de magnetron, petit magnetron, bloc terminal de pulvérisation par magnetron, cathode rotative

15 200,00-16 000,00 $US
2 Sets(MOQ)
1/4

HENAN RUNJING INSTRUMENT EQUIPMENT CO.,LTD

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Équipement de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide élevé pour films conducteurs et optiques

Équipement de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide élevé pour films conducteurs et optiques

55 000,00-65 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Luoyang Kunsheng Instrument Equipment Co.,Ltd

Envoyer demande
Machine de pulvérisation par magnétron sous haute vide avec évaporateur, deux en un

Machine de pulvérisation par magnétron sous haute vide avec évaporateur, deux en un

39 000,00-45 000,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Fourniture d'usine de pur 99.95% lingot de métal tantale

Fourniture d'usine de pur 99.95% lingot de métal tantale

350,00-400,00 $US
100 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Envoyer demande
Haute pureté 4n 99.99% Cuprum Rouge Cu crachats de cuivre rotatif Cible pour revêtement sous vide Magnetron

Haute pureté 4n 99.99% Cuprum Rouge Cu crachats de cuivre rotatif Cible pour revêtement sous vide Magnetron

100,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)
4n 99.99% haute pureté Tio titane Monooxyde rotatable Target Factory Chine

4n 99.99% haute pureté Tio titane Monooxyde rotatable Target Factory Chine

50,00-90,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de NiCr rotatif Target Nickel Chromium pour revêtement sous vide Magnetron

Pulvérisation de NiCr rotatif Target Nickel Chromium pour revêtement sous vide Magnetron

200,00-300,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Haute pureté 5n 99.999% Cuprum Rouge Cu crachats de cuivre rotatif Cible pour revêtement sous vide Magnetron

Haute pureté 5n 99.999% Cuprum Rouge Cu crachats de cuivre rotatif Cible pour revêtement sous vide Magnetron

100,00-500,00 $US
1 Pièce(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Cible de pulvérisation rotative cylindrique en zirconium pour revêtement sous vide cible en tube de zirconium

Cible de pulvérisation rotative cylindrique en zirconium pour revêtement sous vide cible en tube de zirconium

Négociable
1 Pièce(MOQ)
La surface polie personnalisé de compétitivité des prix de 99,95 % Niv7 Nickel de haute pureté

La surface polie personnalisé de compétitivité des prix de 99,95 % Niv7 Nickel de haute pureté

40,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
99,9 % de nickel en alliage de vanadium Cible Cible pulvérisation Niv

99,9 % de nickel en alliage de vanadium Cible Cible pulvérisation Niv

40,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
Pulvérisation de vanadium de haute pureté cible, 99,99 % cible de vanadium V Cible de pulvérisation pour le revêtement

Pulvérisation de vanadium de haute pureté cible, 99,99 % cible de vanadium V Cible de pulvérisation pour le revêtement

40,00-50,00 $US
1 Pièce(MOQ)
1/2

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 ans·5.0
·Fabricant/Usine & Société Commerciale
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Cible de pulvérisation rotative en oxyde de niobium plaque (cible NbOx de haute pureté)

Cible de pulvérisation rotative en oxyde de niobium plaque (cible NbOx de haute pureté)

112,50-115,00 $US
5 Kg(MOQ)
1/4

Henan Clark Industrial Co., Ltd.

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Cible rotative au molybdène de haute pureté

Cible rotative au molybdène de haute pureté

60,00-200,00 $US
1 Kg(MOQ)
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