Accueil Électroniques de Consommation Amplificateur Amplificateur de puissance analogique 2024 Liste de Produits

Amplificateur de puissance analogique

produits trouvés de fabricants et grossistes de confiance

Collection

G3HM3251 Tpa chemin pur Ultra HD amplificateur classe D d'entrée analogique

90,00-170,00 $US / Pièce

50 Pièces (MOQ)

Sinewave Electronics Co., Limited

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Type: Mini amplificateur

Usage: Hi-Fi

Utilisé Pour: Professionnel

Type de tube: Amplificateur IC

Mode de conducteur: D

Emballage: Carton

Générateur de plasma RF de 500 W, 13,56 MHz, pour four à tubes PECVD, alimentation RF pour plasma Cleaner

Générateur de plasma RF de 500 W, 13,56 MHz, pour four à tubes PECVD, alimentation RF pour plasma Cleaner

Générateur de plasma RF de 500 W, 13,56 MHz, pour four à tubes PECVD, alimentation RF pour plasma Cleaner

Générateur de plasma RF de 500 W, 13,56 MHz, pour four à tubes PECVD, alimentation RF pour plasma Cleaner

Générateur de plasma RF de 500 W, 13,56 MHz, pour four à tubes PECVD, alimentation RF pour plasma Cleaner

Générateur de plasma RF de 500 W, 13,56 MHz, pour four à tubes PECVD, alimentation RF pour plasma Cleaner

1/ 6

Collection

Générateur de plasma RF de 500 W, 13,56 MHz, pour four à tubes PECVD, alimentation RF pour plasma Cleaner

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Pecvd Plasma CVD amélioré four avec alimentation RF

Pecvd Plasma CVD amélioré four avec alimentation RF

Pecvd Plasma CVD amélioré four avec alimentation RF

Pecvd Plasma CVD amélioré four avec alimentation RF

Pecvd Plasma CVD amélioré four avec alimentation RF

Pecvd Plasma CVD amélioré four avec alimentation RF

1/ 6

Collection

Pecvd Plasma CVD amélioré four avec alimentation RF

12 800,00-18 800,00 $US / Pièce

1 Pièce (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Application: École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: bureau

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

Générateur RF 500 W pour dépôt chimique amélioré de vapeur au plasma, nettoyage au plasma, revêtement au plasma

Générateur RF 500 W pour dépôt chimique amélioré de vapeur au plasma, nettoyage au plasma, revêtement au plasma

Générateur RF 500 W pour dépôt chimique amélioré de vapeur au plasma, nettoyage au plasma, revêtement au plasma

Générateur RF 500 W pour dépôt chimique amélioré de vapeur au plasma, nettoyage au plasma, revêtement au plasma

Générateur RF 500 W pour dépôt chimique amélioré de vapeur au plasma, nettoyage au plasma, revêtement au plasma

Générateur RF 500 W pour dépôt chimique amélioré de vapeur au plasma, nettoyage au plasma, revêtement au plasma

1/ 6

Collection

Générateur RF 500 W pour dépôt chimique amélioré de vapeur au plasma, nettoyage au plasma, revêtement au plasma

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur d'alimentation RF compact à correspondance automatique de 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF compact à correspondance automatique de 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF compact à correspondance automatique de 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF compact à correspondance automatique de 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF compact à correspondance automatique de 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF compact à correspondance automatique de 13,56 MHz

1/ 6

Collection

Générateur d'alimentation RF compact à correspondance automatique de 13,56 MHz

2 000,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF haute puissance 500 W pour source plasma / PECVD Système

Générateur RF haute puissance 500 W pour source plasma / PECVD Système

Générateur RF haute puissance 500 W pour source plasma / PECVD Système

Générateur RF haute puissance 500 W pour source plasma / PECVD Système

Générateur RF haute puissance 500 W pour source plasma / PECVD Système

Générateur RF haute puissance 500 W pour source plasma / PECVD Système

1/ 6

Collection

Générateur RF haute puissance 500 W pour source plasma / PECVD Système

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateurs d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz, 300 W, RF Alimentation pour source d'ions plasma

Générateurs d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz, 300 W, RF Alimentation pour source d'ions plasma

Générateurs d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz, 300 W, RF Alimentation pour source d'ions plasma

Générateurs d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz, 300 W, RF Alimentation pour source d'ions plasma

Générateurs d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz, 300 W, RF Alimentation pour source d'ions plasma

Générateurs d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz, 300 W, RF Alimentation pour source d'ions plasma

1/ 6

Collection

Générateurs d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz, 300 W, RF Alimentation pour source d'ions plasma

2 000,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Le plasma enhanced chemical vapour deposition Pecvd Système avec tube de quartz four

Le plasma enhanced chemical vapour deposition Pecvd Système avec tube de quartz four

Le plasma enhanced chemical vapour deposition Pecvd Système avec tube de quartz four

Le plasma enhanced chemical vapour deposition Pecvd Système avec tube de quartz four

Le plasma enhanced chemical vapour deposition Pecvd Système avec tube de quartz four

Le plasma enhanced chemical vapour deposition Pecvd Système avec tube de quartz four

1/ 6

Collection

Le plasma enhanced chemical vapour deposition Pecvd Système avec tube de quartz four

25 000,00-30 000,00 $US / Jeu

1 Jeu (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Application: Industrie,École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: Portable

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

Générateur RF plasma/générateur RF de laboratoire 300 W/500 W 13.56 MHz

Générateur RF plasma/générateur RF de laboratoire 300 W/500 W 13.56 MHz

Générateur RF plasma/générateur RF de laboratoire 300 W/500 W 13.56 MHz

Générateur RF plasma/générateur RF de laboratoire 300 W/500 W 13.56 MHz

Générateur RF plasma/générateur RF de laboratoire 300 W/500 W 13.56 MHz

Générateur RF plasma/générateur RF de laboratoire 300 W/500 W 13.56 MHz

1/ 6

Collection

Générateur RF plasma/générateur RF de laboratoire 300 W/500 W 13.56 MHz

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur d'alimentation RF de laboratoire 1 000 W avec dispositif de surveillance automatique

Générateur d'alimentation RF de laboratoire 1 000 W avec dispositif de surveillance automatique

Générateur d'alimentation RF de laboratoire 1 000 W avec dispositif de surveillance automatique

Générateur d'alimentation RF de laboratoire 1 000 W avec dispositif de surveillance automatique

Générateur d'alimentation RF de laboratoire 1 000 W avec dispositif de surveillance automatique

Générateur d'alimentation RF de laboratoire 1 000 W avec dispositif de surveillance automatique

1/ 6

Collection

Générateur d'alimentation RF de laboratoire 1 000 W avec dispositif de surveillance automatique

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Alimentation RF plasma 13,56 MHz pour PECVD, décapage plasma, nettoyage plasma

Alimentation RF plasma 13,56 MHz pour PECVD, décapage plasma, nettoyage plasma

Alimentation RF plasma 13,56 MHz pour PECVD, décapage plasma, nettoyage plasma

Alimentation RF plasma 13,56 MHz pour PECVD, décapage plasma, nettoyage plasma

Alimentation RF plasma 13,56 MHz pour PECVD, décapage plasma, nettoyage plasma

Alimentation RF plasma 13,56 MHz pour PECVD, décapage plasma, nettoyage plasma

1/ 6

Collection

Alimentation RF plasma 13,56 MHz pour PECVD, décapage plasma, nettoyage plasma

2 000,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

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Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Alimentation RF du générateur de plasma de laboratoire 100 W 150 W 300 W, 500 W, 100 W, 1500 W, 2 000 W puissance de sortie

Alimentation RF du générateur de plasma de laboratoire 100 W 150 W 300 W, 500 W, 100 W, 1500 W, 2 000 W puissance de sortie

Alimentation RF du générateur de plasma de laboratoire 100 W 150 W 300 W, 500 W, 100 W, 1500 W, 2 000 W puissance de sortie

Alimentation RF du générateur de plasma de laboratoire 100 W 150 W 300 W, 500 W, 100 W, 1500 W, 2 000 W puissance de sortie

Alimentation RF du générateur de plasma de laboratoire 100 W 150 W 300 W, 500 W, 100 W, 1500 W, 2 000 W puissance de sortie

Alimentation RF du générateur de plasma de laboratoire 100 W 150 W 300 W, 500 W, 100 W, 1500 W, 2 000 W puissance de sortie

1/ 6

Collection

Alimentation RF du générateur de plasma de laboratoire 100 W 150 W 300 W, 500 W, 100 W, 1500 W, 2 000 W puissance de sortie

2 000,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Alimentation haute tension Générateur électrostatique pour dispositif électro-rotatif

Alimentation haute tension Générateur électrostatique pour dispositif électro-rotatif

Alimentation haute tension Générateur électrostatique pour dispositif électro-rotatif

Alimentation haute tension Générateur électrostatique pour dispositif électro-rotatif

Alimentation haute tension Générateur électrostatique pour dispositif électro-rotatif

Alimentation haute tension Générateur électrostatique pour dispositif électro-rotatif

1/ 6

Collection

Alimentation haute tension Générateur électrostatique pour dispositif électro-rotatif

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour le bec de magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour le bec de magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour le bec de magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour le bec de magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour le bec de magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour le bec de magnétron

1/ 6

Collection

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour le bec de magnétron

4 200,00-4 800,00 $US / Pièce

1 Pièce (MOQ)

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Domaines d'application: Électronique

Niveau De Bruit: Faible

Taille de machine: Petit

État: Nouveau

Certificat: CE

Emballage: Fumigated Wooden Box

four à vide PECVD à déposition chimique améliorée par plasma 1200c

four à vide PECVD à déposition chimique améliorée par plasma 1200c

four à vide PECVD à déposition chimique améliorée par plasma 1200c

four à vide PECVD à déposition chimique améliorée par plasma 1200c

four à vide PECVD à déposition chimique améliorée par plasma 1200c

four à vide PECVD à déposition chimique améliorée par plasma 1200c

1/ 6

Collection

four à vide PECVD à déposition chimique améliorée par plasma 1200c

13 800,00-19 800,00 $US / Pièce

1 Pièce (MOQ)

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Application: École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: bureau

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

Générateur RF 500 W 13,56 MHz pour tube de 50 ou 80 mm de diamètre externe Four

Générateur RF 500 W 13,56 MHz pour tube de 50 ou 80 mm de diamètre externe Four

Générateur RF 500 W 13,56 MHz pour tube de 50 ou 80 mm de diamètre externe Four

Générateur RF 500 W 13,56 MHz pour tube de 50 ou 80 mm de diamètre externe Four

Générateur RF 500 W 13,56 MHz pour tube de 50 ou 80 mm de diamètre externe Four

Générateur RF 500 W 13,56 MHz pour tube de 50 ou 80 mm de diamètre externe Four

1/ 6

Collection

Générateur RF 500 W 13,56 MHz pour tube de 50 ou 80 mm de diamètre externe Four

2 000,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour pulvérisation magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour pulvérisation magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour pulvérisation magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour pulvérisation magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour pulvérisation magnétron

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour pulvérisation magnétron

1/ 6

Collection

Générateur RF compact 13.56 MHz 300 W avec réseau de correspondance automatique Pour pulvérisation magnétron

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF compact 13,56 MHz 300W 500W 1000W 2000W Alimentation avec comparaison automatique

Générateur RF compact 13,56 MHz 300W 500W 1000W 2000W Alimentation avec comparaison automatique

Générateur RF compact 13,56 MHz 300W 500W 1000W 2000W Alimentation avec comparaison automatique

Générateur RF compact 13,56 MHz 300W 500W 1000W 2000W Alimentation avec comparaison automatique

Générateur RF compact 13,56 MHz 300W 500W 1000W 2000W Alimentation avec comparaison automatique

Générateur RF compact 13,56 MHz 300W 500W 1000W 2000W Alimentation avec comparaison automatique

1/ 6

Collection

Générateur RF compact 13,56 MHz 300W 500W 1000W 2000W Alimentation avec comparaison automatique

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Auto Matching 300 W 500 W RF Generator Source de pulvérisation magnétron

Auto Matching 300 W 500 W RF Generator Source de pulvérisation magnétron

Auto Matching 300 W 500 W RF Generator Source de pulvérisation magnétron

Auto Matching 300 W 500 W RF Generator Source de pulvérisation magnétron

Auto Matching 300 W 500 W RF Generator Source de pulvérisation magnétron

Auto Matching 300 W 500 W RF Generator Source de pulvérisation magnétron

1/ 6

Collection

Auto Matching 300 W 500 W RF Generator Source de pulvérisation magnétron

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF/générateur plasma RF pour le décapage au plasma, le nettoyage au plasma, la polymérisation au plasma

Générateur RF/générateur plasma RF pour le décapage au plasma, le nettoyage au plasma, la polymérisation au plasma

Générateur RF/générateur plasma RF pour le décapage au plasma, le nettoyage au plasma, la polymérisation au plasma

Générateur RF/générateur plasma RF pour le décapage au plasma, le nettoyage au plasma, la polymérisation au plasma

Générateur RF/générateur plasma RF pour le décapage au plasma, le nettoyage au plasma, la polymérisation au plasma

Générateur RF/générateur plasma RF pour le décapage au plasma, le nettoyage au plasma, la polymérisation au plasma

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Collection

Générateur RF/générateur plasma RF pour le décapage au plasma, le nettoyage au plasma, la polymérisation au plasma

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF plasma avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

1/ 6

Collection

Générateur RF plasma avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

4 200,00-4 800,00 $US / Pièce

1 Pièce (MOQ)

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Domaines d'application: Électronique

Niveau De Bruit: Faible

Taille de machine: Petit

État: Nouveau

Certificat: CE

Emballage: Fumigated Wooden Box

Atmosphère protectrice haute température contrôle précis de la température vide vapeur chimique Four à tubes PECVD

Atmosphère protectrice haute température contrôle précis de la température vide vapeur chimique Four à tubes PECVD

Atmosphère protectrice haute température contrôle précis de la température vide vapeur chimique Four à tubes PECVD

Atmosphère protectrice haute température contrôle précis de la température vide vapeur chimique Four à tubes PECVD

Atmosphère protectrice haute température contrôle précis de la température vide vapeur chimique Four à tubes PECVD

Atmosphère protectrice haute température contrôle précis de la température vide vapeur chimique Four à tubes PECVD

1/ 6

Collection

Atmosphère protectrice haute température contrôle précis de la température vide vapeur chimique Four à tubes PECVD

20 000,00-32 000,00 $US / Jeu

1 Jeu (MOQ)

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Application: Industrie,École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: Portable

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

Générateur d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz

Générateur d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz

1/ 6

Collection

Générateur d'alimentation RF plasma de laboratoire de 300 W, 13,56 MHz

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF Lab 500 W 1 000 W 2 000 W avec fréquence de 13,56 MHz et Boîte d'allumettes et câbles

Générateur RF Lab 500 W 1 000 W 2 000 W avec fréquence de 13,56 MHz et Boîte d'allumettes et câbles

Générateur RF Lab 500 W 1 000 W 2 000 W avec fréquence de 13,56 MHz et Boîte d'allumettes et câbles

Générateur RF Lab 500 W 1 000 W 2 000 W avec fréquence de 13,56 MHz et Boîte d'allumettes et câbles

Générateur RF Lab 500 W 1 000 W 2 000 W avec fréquence de 13,56 MHz et Boîte d'allumettes et câbles

Générateur RF Lab 500 W 1 000 W 2 000 W avec fréquence de 13,56 MHz et Boîte d'allumettes et câbles

1/ 6

Collection

Générateur RF Lab 500 W 1 000 W 2 000 W avec fréquence de 13,56 MHz et Boîte d'allumettes et câbles

4 200,00-4 800,00 $US / Pièce

1 Pièce (MOQ)

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Domaines d'application: Électronique

Niveau De Bruit: Faible

Taille de machine: Petit

État: Nouveau

Certificat: CE

Emballage: Fumigated Wooden Box

Alimentation RF professionnelle 500 W (300 W), générateur RF/PECVD Système

Alimentation RF professionnelle 500 W (300 W), générateur RF/PECVD Système

Alimentation RF professionnelle 500 W (300 W), générateur RF/PECVD Système

Alimentation RF professionnelle 500 W (300 W), générateur RF/PECVD Système

Alimentation RF professionnelle 500 W (300 W), générateur RF/PECVD Système

Alimentation RF professionnelle 500 W (300 W), générateur RF/PECVD Système

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Collection

Alimentation RF professionnelle 500 W (300 W), générateur RF/PECVD Système

2 000,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Générateur RF plasma de laboratoire avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma de laboratoire avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma de laboratoire avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma de laboratoire avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma de laboratoire avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

Générateur RF plasma de laboratoire avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

1/ 6

Collection

Générateur RF plasma de laboratoire avec sortie 150 W, 300 W, 500 W, 1000 W, 1500 W.

4 300,00-4 800,00 $US / set

1 set (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Canal: 3

Afficher: LCD

Emballage: Fumigated Wooden Box

Standard: 133*440*410mm

Marque Déposée: TN

Origine: China

Le Plasma Enhanced MCV (PECVD) Tube graphène four avec de la machine13.56 MHz RF

Le Plasma Enhanced MCV (PECVD) Tube graphène four avec de la machine13.56 MHz RF

Le Plasma Enhanced MCV (PECVD) Tube graphène four avec de la machine13.56 MHz RF

Le Plasma Enhanced MCV (PECVD) Tube graphène four avec de la machine13.56 MHz RF

Le Plasma Enhanced MCV (PECVD) Tube graphène four avec de la machine13.56 MHz RF

Le Plasma Enhanced MCV (PECVD) Tube graphène four avec de la machine13.56 MHz RF

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Collection

Le Plasma Enhanced MCV (PECVD) Tube graphène four avec de la machine13.56 MHz RF

15 600,00-18 800,00 $US / Pièce

1 Pièce (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Application: École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: bureau

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition System Hpcvd machine

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Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition System Hpcvd machine

Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition System Hpcvd machine

Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition System Hpcvd machine

Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition System Hpcvd machine

1/ 6

Collection

Plasma Enhanced Hybrid Physical Chemical Vapor Deposition System Hpcvd machine

20 000,00-280 000,00 $US / Jeu

1 Jeu (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Application: Industrie,École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: Portable

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

Système CVD amélioré plasma PECVD machine à graphène With13,56 MHz RF Puissance

Système CVD amélioré plasma PECVD machine à graphène With13,56 MHz RF Puissance

Système CVD amélioré plasma PECVD machine à graphène With13,56 MHz RF Puissance

Système CVD amélioré plasma PECVD machine à graphène With13,56 MHz RF Puissance

Système CVD amélioré plasma PECVD machine à graphène With13,56 MHz RF Puissance

Système CVD amélioré plasma PECVD machine à graphène With13,56 MHz RF Puissance

1/ 6

Collection

Système CVD amélioré plasma PECVD machine à graphène With13,56 MHz RF Puissance

25 000,00-30 000,00 $US / Jeu

1 Jeu (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Application: Industrie,École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: Portable

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

Four à tubes à plasma amélioré CVD (PECVD) machine à graphène With13,56MHz RF

Four à tubes à plasma amélioré CVD (PECVD) machine à graphène With13,56MHz RF

Four à tubes à plasma amélioré CVD (PECVD) machine à graphène With13,56MHz RF

Four à tubes à plasma amélioré CVD (PECVD) machine à graphène With13,56MHz RF

Four à tubes à plasma amélioré CVD (PECVD) machine à graphène With13,56MHz RF

Four à tubes à plasma amélioré CVD (PECVD) machine à graphène With13,56MHz RF

1/ 6

Collection

Four à tubes à plasma amélioré CVD (PECVD) machine à graphène With13,56MHz RF

20 000,00-280 000,00 $US / Jeu

1 Jeu (MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

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Application: Industrie,École,Laboratoire

Customized: Customized

certificat: CE

Structure: Portable

Matériel: Acier inoxydable

Type: Tubular Furnace

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